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公开(公告)号:CN117604502A
公开(公告)日:2024-02-27
申请号:CN202311531989.4
申请日:2016-01-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
Abstract: 本申请涉及用于空间上分离的原子层沉积腔室的改进的注射器。公开用于空间式原子层沉积的设备和方法。所述设备包括气体递送系统,所述气体递送系统包含第一气体和第二气体,所述第一气体流动通过与阀流体连通的多个腿部,并且所述第二气体流动通过多个腿部进入所述阀。
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公开(公告)号:CN107208266A
公开(公告)日:2017-09-26
申请号:CN201680007014.3
申请日:2016-01-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
CPC classification number: C23C16/45551 , C23C16/45561 , C23C16/4584
Abstract: 公开用于空间式原子层沉积的设备和方法。所述设备包括气体递送系统,所述气体递送系统包含第一气体和第二气体,所述第一气体流动通过与阀流体连通的多个腿部,并且所述第二气体流动通过多个腿部进入所述阀。
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