公开(公告)号：CN103887365A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201310713926.0

申请日：2013-12-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·P·斯图尔特 ,  D·K·科恰尔

IPC: H01L31/18 ,  H01L31/0216

CPC classification number: H01L31/18 ,  H01L31/02167 ,  H01L31/02168 ,  Y02E10/50 ,  H01L31/1868

Abstract: 本发明的实施例包括一种太阳能电池和形成太阳能电池的方法。具体地，所述方法可用于在太阳能电池基板上形成具有期望的功能和光学性质的钝化/抗反射层。在一个实施例中，一种在太阳能电池基板上形成抗反射层的方法包括以下步骤：使第一处理气体混合物流动到处理腔室中，其中所述第一处理气体混合物至少包括含硅气体和含氮气体，其中供应到第一处理气体混合物中的含硅气体与含氮气体的流量比率被控制在大约2:1到大约1:5之间；在存在第一处理气体混合物的情况下，施加源RF功率到所述处理腔室；将工艺压力控制在低于100mTorr；以及在基板上形成含氮化硅的层。