-
公开(公告)号：CN119856120A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202380064584.6
申请日：2023-09-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戴辉雄 , 芒格什·阿肖克·邦阿 , 许志安 , 斯里尼瓦斯·D·内曼尼 , 德米特里·卢博米尔斯基 , 怡利·Y·叶
IPC: G03F7/38 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 本文中描述一种用于执行曝光后烘烤操作的方法及设备。在基板上的光致抗蚀剂曝光之后，在烘烤工艺期间加热基板以促进对抗蚀剂的保护。在真空环境中在次大气压的压力下执行烘烤工艺。在以减少的压力进行烘烤之后，使基板冷却。在次大气压的压力下执行冷却工艺。在环境压力下执行抗蚀剂的进一步显影。
Search Results
1
records
(took 0.034 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
