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公开(公告)号：CN113366605B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN201980090404.5
申请日：2019-02-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约阿希姆·松嫩申 , 丹尼尔·谢弗-科皮托 , 托拜西·伯格曼
Abstract: 提供了一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(100)。所述沉积设备包括阴极组件(10)。所述沉积设备包括冷却剂接收壳体(20)，所述冷却剂接收壳体用于接收冷却剂(22)以冷却所述阴极组件。所述沉积设备包括传感器(30)，所述传感器布置在所述冷却剂接收壳体(20)外部以检测所述冷却剂从所述冷却剂接收壳体的泄漏。
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公开(公告)号：CN112585717A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201880096450.1
申请日：2018-08-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·沃纳·兹巴于尔 , 托拜西·伯格曼 , 丹尼尔·谢弗-科皮托 , 丹尼尔·塞韦林
Abstract: 描述了一种溅射装置。所述溅射装置包括：阴极布置，所述阴极布置为悬臂式的并且包括靶管，所述阴极布置沿轴向方向延伸并且具有第一侧和第二侧，所述第一侧为被支撑侧，所述第二侧为非被支撑侧；以及暗空间屏蔽件，所述暗空间屏蔽件设置在所述第二侧处并且至少部分地覆盖所述阴极布置，所述暗空间屏蔽件提供重叠区域，在所述重叠区域处所述暗空间屏蔽件与所述靶管沿着所述轴向方向重叠。
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公开(公告)号：CN115461491A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202080100332.0
申请日：2020-07-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯托弗·马尔姆斯 , 托拜西·伯格曼
Abstract: 提供用于操作具有至少一个电负载的腔室的方法，电负载具有至少一个暴露于腔室中变化压强条件的电压承载部分。该方法包括：当腔室中的压强在临界压强范围(301)之外时，向腔室中布置的至少一个电负载供给不超过最大电压(U1)的标称范围内的电压，临界压强范围(301)限定为当向至少一个电负载供给最大电压时腔室中发生电弧放电的压强范围；并且当腔室中的压强在临界压强范围(301)内时，向腔室中布置的至少一个电负载供给不超过压强相关无电弧电压(U2)的电压以维持对至少一个电负载的操作，压强相关无电弧电压(U2)低于最大电压(U1)。
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公开(公告)号：CN103094161A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201110343175.9
申请日：2011-10-27
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/673 , C23C16/458
Abstract: 一种适应处理期间的热梯度的托盘。在一个方面，托盘包括一对细长部件、固定耦连到每个细长部件的固定式细长横向部件，和浮动耦连到细长部件的细长浮动式横向部件。所述浮动式横向部件偏离所述固定耦连的横向部件，以在两者间限定间隙。
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公开(公告)号：CN115461491B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202080100332.0
申请日：2020-07-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯托弗·马尔姆斯 , 托拜西·伯格曼
Abstract: 提供用于操作具有至少一个电负载的腔室的方法，电负载具有至少一个暴露于腔室中变化压强条件的电压承载部分。该方法包括：当腔室中的压强在临界压强范围(301)之外时，向腔室中布置的至少一个电负载供给不超过最大电压(U1)的标称范围内的电压，临界压强范围(301)限定为当向至少一个电负载供给最大电压时腔室中发生电弧放电的压强范围；并且当腔室中的压强在临界压强范围(301)内时，向腔室中布置的至少一个电负载供给不超过压强相关无电弧电压(U2)的电压以维持对至少一个电负载的操作，压强相关无电弧电压(U2)低于最大电压(U1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112585717B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN201880096450.1
申请日：2018-08-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·沃纳·兹巴于尔 , 托拜西·伯格曼 , 丹尼尔·谢弗-科皮托 , 丹尼尔·塞韦林
Abstract: 描述了一种溅射装置。所述溅射装置包括：阴极布置，所述阴极布置为悬臂式的并且包括靶管，所述阴极布置沿轴向方向延伸并且具有第一侧和第二侧，所述第一侧为被支撑侧，所述第二侧为非被支撑侧；以及暗空间屏蔽件，所述暗空间屏蔽件设置在所述第二侧处并且至少部分地覆盖所述阴极布置，所述暗空间屏蔽件提供重叠区域，在所述重叠区域处所述暗空间屏蔽件与所述靶管沿着所述轴向方向重叠。
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公开(公告)号：CN113366605A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201980090404.5
申请日：2019-02-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约阿希姆·松嫩申 , 丹尼尔·谢弗-科皮托 , 托拜西·伯格曼
Abstract: 提供了一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(100)。所述沉积设备包括阴极组件(10)。所述沉积设备包括冷却剂接收壳体(20)，所述冷却剂接收壳体用于接收冷却剂(22)以冷却所述阴极组件。所述沉积设备包括传感器(30)，所述传感器布置在所述冷却剂接收壳体(20)外部以检测所述冷却剂从所述冷却剂接收壳体的泄漏。
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公开(公告)号：CN113454752B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN201980091971.2
申请日：2019-02-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约阿希姆·松嫩申 , 丹尼尔·谢弗-科皮托 , 托拜西·伯格曼
Abstract: 描述了一种用于沉积源的阴极驱动单元(102)；和带驱动器，所述带驱动器用于旋转所述阴极支撑件。所述带驱动器包括：第一滑轮(112)，所述第一滑轮耦接到驱动所述阴极支撑件的轴(103)；驱动组件(120)，所述驱动组件具有第二滑轮(114)；带(116)，所述带与所述第一滑轮和所述第二滑轮接合；引导件(130)，所述引导件支撑所述驱动组件的至少一部分；和张紧器(140)，所述张紧器向所述驱动组件的至少所述部分提供力以用于沿所述引导件移动所述驱动组件的至少所述部分。(100)。所述阴极驱动单元包括：阴极支撑件
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公开(公告)号：CN113661558B
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN201980095031.0
申请日：2019-04-03
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约阿希姆·松嫩申 , 威利·绍尔 , 丹尼尔·谢弗-科皮托 , 托拜西·伯格曼
Abstract: 描述了溅射沉积源(100)。所述溅射沉积源包括：第一溅射电极(110)；以及电源组件(130)，所述电源组件用于向所述第一溅射电极供应电流。所述电源组件包括具有由公共护套(133)包围的多个绝缘芯(132)的线缆(131)。所述线缆可以可选地进一步包括屏蔽布置(140)。另外，描述了一种溅射沉积设备(200)，所述溅射沉积设备包括两个相邻溅射电极，所述两个相邻溅射电极可经由包括多个绝缘芯的线缆供应交流电。
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公开(公告)号：CN113454752A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201980091971.2
申请日：2019-02-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约阿希姆·松嫩申 , 丹尼尔·谢弗-科皮托 , 托拜西·伯格曼
Abstract: 描述了一种用于沉积源的阴极驱动单元(100)。所述阴极驱动单元包括：阴极支撑件(102)；和带驱动器，所述带驱动器用于旋转所述阴极支撑件。所述带驱动器包括：第一滑轮(112)，所述第一滑轮耦接到驱动所述阴极支撑件的轴(103)；驱动组件(120)，所述驱动组件具有第二滑轮(114)；带(116)，所述带与所述第一滑轮和所述第二滑轮接合；引导件(130)，所述引导件支撑所述驱动组件的至少一部分；和张紧器(140)，所述张紧器向所述驱动组件的至少所述部分提供力以用于沿所述引导件移动所述驱动组件的至少所述部分。
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