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公开(公告)号：CN116347774A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310406231.1
申请日：2023-04-14
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
IPC: H05K3/00
Abstract: 本发明公开了一种等离子蚀刻设备及蚀刻除胶方法，通过在电极板中嵌入永磁铁组，永磁铁组的充磁面与电极板的平面相互垂直，所述永磁铁组的充磁面与所述电极板的平面相互垂直,以使通电状态下不同所述电极板间产生的磁场与所述电极板上产生的交变电场相互垂直，在交变电场的作用下，将反应气体离化为等离子体，通过磁场的合理布置，在磁场的作用下，等离子体的浓度和化学活性增加，从而提高对孔内残胶的咬蚀速度和均匀性。
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公开(公告)号：CN116471747A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202310406598.3
申请日：2023-04-14
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本发明涉及等离子蚀刻领域，公开了一种等离子清洗设备及等离子清洗方法，所述等离子清洗设备包括蚀刻箱体、等离子清洗模块、料框、压力计和真空泵，所述蚀刻箱体设有蚀刻腔室及抽气口；所述等离子清洗模块包括两个气排组件及至少两个电极板，多个电极板沿一方向依次间隔布置，相邻的两块电极板之间均具有间隙，两气排组件用于向间隙内相对地喷射待离化气体，相邻两个电极板在通电时产生交变电场，所述间隙内设置有与交变电场的电场线垂直相交的磁场；所述压力计与蚀刻腔室相连通；所述真空泵与抽气口连接并用于驱动蚀刻腔室内的气体从抽气口向外排出。本申请主要解决现有的等离子清洗设备清洗速率较慢且清洗的均匀程度较差的技术问题。
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公开(公告)号：CN118147618A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202410168630.3
申请日：2024-02-06
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种热丝拉力控制方法、控制器及化学沉积设备，热丝拉力控制方法包括有如下步骤：获取反应腔内热丝所在一预设区域的实时温度信息和/或实时图像信息；根据实时温度信息和/或实时图像信息判断热丝是否出现下垂；若判定热丝出现下垂，则调整热丝所受的拉力大小以使热丝恢复拉直状态。当热丝发生下垂时，热丝和预设区域之间的距离会发生变化，从而使得预设区域的温度发生变化，且热丝本身的图像也会发生变化；通过获取预设区域的实时温度信息和/或实时图像信息，根据实时温度信息和/或实时图像信息能够实时了解到热丝是否出现下垂，并且在热丝发生下垂时能够及时调整热丝所受的拉力大小，以使得热丝能够及时恢复至拉直状态。
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公开(公告)号：CN116581009A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310406578.6
申请日：2023-04-14
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本发明涉及等离子蚀刻领域，公开了一种等离子清洗模块及等离子清洗方法，所述等离子清洗模块包括两个气排组件及至少两个电极板，多个电极板沿一方向依次间隔布置，相邻的两块电极板之间均具有间隙，两气排组件用于向间隙内相对地喷射待离化气体，相邻两个电极板在通电时产生交变电场，所述间隙内设置有与交变电场相交的磁场，在交变电场和磁场的共同作用下，电子由往复运动变为螺旋回转运动，从而增大了电子的行程，进而增大了电子与中性粒子的碰撞频率，因此增大了活性粒子的密度，提高活性粒子往深孔扩散的动力，增强了活性粒子的迁移能力，而且增强了等离子体中反应物质的化学反应，从而促进电路板表面和孔内咬蚀速率及均匀性的提升。
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公开(公告)号：CN219843786U
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202320849599.0
申请日：2023-04-14
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本实用新型涉及等离子蚀刻的技术领域，公开了一种具有双向水路的等离子清洗模块及等离子清洗设备，所述等离子清洗模块包括至少两块沿一方向依次间隔布置的电极板，相邻的两块所述电极板之间均具有用于供待清洗物体放置的间隙，相邻两块所述电极板的极性相反，以使各所述间隙内具有用于离化气体的电场，所述电极板内具有双向水路，所述双向水路具有用于供冷却液进入的进液口及用于供冷却液排出的出液口，所述进液口和所述出液口相邻布置。本技术方案将进液口和出液口设置为相邻布置，使冷却液从进液口进入到电极板内后需要反向折返才能向外排出，使用此双向水路，使电极板的温度更加均匀，进而使得除胶性能更加均匀。
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公开(公告)号：CN218203029U
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202221245280.9
申请日：2022-05-23
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本实用新型涉及镀膜设备技术领域，公开了一种公自转式传动机构及镀膜设备，包括公转底托和自转底托，自转底托能随公转底托的自转发生公转，公转底托自转时通过传动组件带动自转底托发生自转；自转底托上设有用于放置镀件的放置槽，放置槽为通槽，当镀件置于放置槽内时，镀件的底部与公转底托接触；当自转底托发生自转时，镀件与公转底托之间形成的摩擦力驱使镀件发生自转。通过镀件与公转底托之间的相对摩擦形成摩擦力以驱使镀件发生自转，有效地降低了由于镀件之间发生的相互遮挡导致镀膜不充分的情形，进而提高了镀膜质量。
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公开(公告)号：CN219843790U
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202320849404.2
申请日：2023-04-14
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本实用新型涉及等离子蚀刻领域，公开了一种等离子清洗模块，包括两个气排组件及至少两个电极板，多个电极板沿一方向依次间隔布置，相邻的两块电极板之间均具有间隙，两气排组件用于向间隙内相对地喷射待离化气体，相邻两个电极板在通电时产生交变电场，所述间隙内设置有与交变电场相交的磁场，在交变电场和磁场的共同作用下，电子由往复运动变为螺旋回转运动，从而增大了电子的行程，进而增大了电子与中性粒子的碰撞频率，因此增大了活性粒子的密度，提高活性粒子往深孔扩散的动力，增强了活性粒子的迁移能力，而且增强了等离子体中反应物质的化学反应，从而促进电路板表面和孔内咬蚀速率及均匀性的提升。
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公开(公告)号：CN219843785U
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202320849491.1
申请日：2023-04-14
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本实用新型涉及等离子蚀刻领域，公开了一种等离子清洗设备，包括蚀刻箱体、等离子清洗模块、料框、压力计和真空泵，所述蚀刻箱体设有蚀刻腔室及抽气口；所述等离子清洗模块包括两个气排组件及至少两个电极板，多个电极板沿一方向依次间隔布置且互相平行，相邻的两块电极板之间均具有间隙，两气排组件用于向间隙内相对地喷射待离化气体，相邻两个电极板在通电时产生交变电场，所述间隙内设置有与交变电场的电场线垂直相交的磁场；所述压力计与蚀刻腔室相连通；所述真空泵与抽气口连接并用于驱动蚀刻腔室内的气体从抽气口向外排出。本申请主要解决现有的等离子清洗设备清洗速率较慢且清洗的均匀程度较差的技术问题。
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公开(公告)号：CN219603683U
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202320372046.0
申请日：2023-03-01
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
IPC: C23C16/458 , C23C14/50
Abstract: 本实用新型涉及钻针镀膜装置领域，公开了一种钻针镀膜支架，包括转动架和钻针承载治具，所述转动架包括架体和安装在所述架体上的若干组挂钩组；所述挂钩组包括设置在所述架体上的至少两个挂钩，所述至少两个挂钩从上到下依次间隔设置；一个所述钻针承载治具设置在同一所述挂钩组的两个所述挂钩之间，所述钻针承载治具的一端悬挂在一个所述挂钩上，所述钻针承载治具的另一端限定在所述架体与另一个所述挂钩所形成的卡紧空间内。本实用新型的钻针镀膜支架，能有效避免钻针承载治具和架体之间产生过大的碰撞，有利于提升钻针的镀膜质量和生产效率。
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公开(公告)号：CN219740761U
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202320849443.2
申请日：2023-04-14
Applicant: 广东鼎泰机器人科技有限公司
Abstract: 本实用新型涉及等离子蚀刻的技术领域，公开了一种通气均匀的等离子清洗模块及等离子清洗设备，所述通气均匀的等离子清洗模块包括两个气排组件及设置于两所述气排组件之间的至少两个电极板，多个所述电极板沿一方向依次间隔布置，相邻的两块所述电极板之间均具有用于供待清洗物体放置的间隙，两所述气排组件用于向所述间隙内相对地喷射待离化气体，相邻两块所述电极板的极性相反，以使所述间隙内的待离化气体能够离化为用于清洗物体的等离子。本申请主要解决现有的等离子清洗模块存在通气不均匀的技术问题。
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