一种含Ru配位化合物的无氰镀金液及镀金方法

    公开(公告)号:CN115595634A

    公开(公告)日:2023-01-13

    申请号:CN202211149476.2

    申请日:2022-09-21

    IPC分类号: C25D3/48 C25D5/00

    摘要: 本发明公开一种含Ru配位化合物的无氰镀金液及镀金方法,该无氰镀金液包括Ru配位化合物、亚硫酸金盐、缓冲溶液和复合络合剂;不含有强毒或高毒的化学物质;可在中性或者弱酸性条件下使用,化学稳定性良好,可耐受加热‑冷却循环;使用本发明的无氰镀金液得到的镀金层为致密光亮的纯金镀层,不含有O、S、P等杂质原子;且镀金层结晶平整、致密,镀层外观金黄光亮,耐腐蚀性以及与基材的结合力良好;在电镀过程中随着镀层厚度的增加,不会出现镀层发红、有浮灰等问题。本发明的无氰镀金液及电镀金方法符合绿色环保的理念,可降低生产、使用过程及镀后镀液处理存在的安全风险,在高端电子电镀、半导体电镀等方面有广阔的应用前景。