Invention Publication
- Patent Title: 一种含Ru配位化合物的无氰镀金液及镀金方法
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Application No.: CN202211149476.2Application Date: 2022-09-21
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Publication No.: CN115595634APublication Date: 2023-01-13
- Inventor: 郝志峰 , 曾铭 , 陈相 , 吴博 , 罗继业 , 李海欣 , 黄翔 , 何骏涛 , 罗锦逸
- Applicant: 广东工业大学(CN)
- Applicant Address: 广东省广州市越秀区东风东路729号
- Assignee: 广东工业大学(CN)
- Current Assignee: 广东工业大学(CN)
- Current Assignee Address: 广东省广州市越秀区东风东路729号
- Agency: 广州哲力智享知识产权代理有限公司
- Agent 王雪镅
- Main IPC: C25D3/48
- IPC: C25D3/48 ; C25D5/00

Abstract:
本发明公开一种含Ru配位化合物的无氰镀金液及镀金方法,该无氰镀金液包括Ru配位化合物、亚硫酸金盐、缓冲溶液和复合络合剂;不含有强毒或高毒的化学物质;可在中性或者弱酸性条件下使用,化学稳定性良好,可耐受加热‑冷却循环;使用本发明的无氰镀金液得到的镀金层为致密光亮的纯金镀层,不含有O、S、P等杂质原子;且镀金层结晶平整、致密,镀层外观金黄光亮,耐腐蚀性以及与基材的结合力良好;在电镀过程中随着镀层厚度的增加,不会出现镀层发红、有浮灰等问题。本发明的无氰镀金液及电镀金方法符合绿色环保的理念,可降低生产、使用过程及镀后镀液处理存在的安全风险,在高端电子电镀、半导体电镀等方面有广阔的应用前景。
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