氧化铝陶瓷及其制备方法和等离子体刻蚀设备

    公开(公告)号:CN105967665B

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201610512221.6

    申请日:2016-06-30

    IPC分类号: C04B35/111 C04B35/622

    摘要: 本发明涉及一种氧化铝陶瓷及其制备方法和等离子体刻蚀设备。该氧化铝陶瓷的制备方法包括如下步骤:将有机单体、交联剂和分散剂加水混合,并调节pH值至9~10,得到预配液;将纳米氧化铝粉、微米氧化铝粉和抑制晶粒长大剂加入到预配液中,经混合,得到固相的体积百分含量为45~55%、粘度低于1Pa·s的陶瓷浆料;在陶瓷浆料中加入催化剂和引发剂,经凝胶化,得到湿坯;将湿坯干燥,再经烧结,得到氧化铝陶瓷。上述氧化铝陶瓷的制备方法制备得到的氧化铝陶瓷具有较好的耐等离子体腐蚀性能。

    一种3D打印氮化硅陶瓷的方法

    公开(公告)号:CN107586136A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201710966174.7

    申请日:2017-10-17

    摘要: 本发明提供了一种3D打印氮化硅陶瓷的方法,本发明采用3D打印技术,不仅可以制备复杂形状的氮化硅陶瓷零件,并且利用打印过程中的双层刮刀成型技术,可使β相氮化硅取向排布,经脱脂烧结后,可获得具有复杂形状的织构化氮化硅陶瓷。所制备的氮化硅零件具有优异的可靠性、力学性能、热学性能、耐磨性等。本发明将提供一种新的制备方法,解决氮化硅陶瓷的成型问题,且提高材料性能,降低成本。本发明提供的制备方法将促进氮化硅陶瓷在医疗、化工、电子、航空航天等领域的应用。

    一种3D打印氮化硅陶瓷的方法

    公开(公告)号:CN107586136B

    公开(公告)日:2020-10-23

    申请号:CN201710966174.7

    申请日:2017-10-17

    摘要: 本发明提供了一种3D打印氮化硅陶瓷的方法,本发明采用3D打印技术,不仅可以制备复杂形状的氮化硅陶瓷零件,并且利用打印过程中的双层刮刀成型技术,可使β相氮化硅取向排布,经脱脂烧结后,可获得具有复杂形状的织构化氮化硅陶瓷。所制备的氮化硅零件具有优异的可靠性、力学性能、热学性能、耐磨性等。本发明将提供一种新的制备方法,解决氮化硅陶瓷的成型问题,且提高材料性能,降低成本。本发明提供的制备方法将促进氮化硅陶瓷在医疗、化工、电子、航空航天等领域的应用。

    氧化铝陶瓷及其制备方法和等离子体刻蚀设备

    公开(公告)号:CN106187123B

    公开(公告)日:2019-03-12

    申请号:CN201610513880.1

    申请日:2016-06-30

    摘要: 本发明涉及一种氧化铝陶瓷及其制备方法。该氧化铝陶瓷的制备方法包括如下步骤:将有机单体、交联剂和分散剂加水混合,并调节pH值至9~10,得到预配液;将纳米氧化铝粉和抑制晶粒长大剂粉加入到所述预配液中,经混合,得到固相的体积百分含量为35~45%、粘度低于1Pa·s的陶瓷浆料,其中,纳米氧化铝粉的粒径为5~40纳米,抑制晶粒长大剂粉的粒径为5~50纳米;在陶瓷浆料中加入催化剂和引发剂,经凝胶化,得到湿坯;将湿坯干燥,再经烧结,得到氧化铝陶瓷。上述氧化铝陶瓷的制备方法制备得到的氧化铝陶瓷具有较好的耐等离子体腐蚀性能。