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公开(公告)号：CN109023378B
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201810940388.1
申请日：2018-08-17
Applicant: 常州大学 , 江苏铭丰电子材料科技有限公司
IPC: C23F3/06
Abstract: 本发明属于电解铜箔生产工艺技术领域，提供了一种钛阴极辊化学抛光液及抛光方法，抛光液由两种有机酸和一种表面活性剂组成。有机酸分别是具有还原性浓度为50‑300/L的草酸，可与铜离子、镍离子和钛离子等金属离子形成稳定络合物浓度为10‑50g/L的柠檬酸，表面活性剂为浓度为0.01‑0.5g/L的聚乙烯吡咯烷酮。阴极辊抛光方法为：将钛阴极辊清洗去油后放置在抛光液中，在20‑60℃下旋转辊筒浸泡10‑20分钟，操作简单，抛光后阴极辊表面形成镜面，制造的电解铜箔具有结晶细小致密、容易剥离的优点。钛阴极辊通过该化学抛光液的修复即可满足锂电池用铜箔的需求，也可满足印制线路板用铜箔的需要。
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公开(公告)号：CN109402678B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201811494469.X
申请日：2018-12-07
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明属于铜电解液处理技术领域，公开了电解铜箔电解液中铅离子的去除方法。在电解铜箔生产过程中，可有效降低电解液中铅离子含量的方法。本发明以氯化锆为金属盐，对苯二甲酸为有机配体，N，N‑二甲基甲酰胺为有机溶剂，采用溶剂法制备UiO‑66，将UiO‑66负载于膨胀石墨上作为吸附柱的填充材料，该吸附柱对铜电解液中的铅离子具有良好的去除能力，电解液流经该吸附柱后，电解液中的铅离子浓度下降至0.1μg/ml以下。由于电解液中铅离子浓度的降低，有效地延长了钛基铱‑钽氧化物涂层阳极的使用时间。
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公开(公告)号：CN114460146B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202210078033.2
申请日：2022-01-24
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明属于电解铜箔制造技术领域，涉及电解铜箔的溶铜液中亚铜离子的检测方法，包括如下步骤：采用固体石蜡作为粘合剂，将膨胀石墨与2,2′‑联喹啉混合均匀制成填充物，制备了2,2′‑联喹啉修饰膨胀石墨糊电极，以该电极为工作电极，Ag/AgCl电极为参比电极，铂电极为辅助电极，组成三电极体系，用电化学方法检测亚铜离子。该方法选择性高，成本低，操作简单，可成功应用于检测溶铜液中的亚铜离子。
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公开(公告)号：CN114460146A
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202210078033.2
申请日：2022-01-24
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明属于电解铜箔制造技术领域，涉及电解铜箔的溶铜液中亚铜离子的检测方法，包括如下步骤：采用固体石蜡作为粘合剂，将膨胀石墨与2,2′‑联喹啉混合均匀制成填充物，制备了2,2′‑联喹啉修饰膨胀石墨糊电极，以该电极为工作电极，Ag/AgCl电极为参比电极，铂电极为辅助电极，组成三电极体系，用电化学方法检测亚铜离子。该方法选择性高，成本低，操作简单，可成功应用于检测溶铜液中的亚铜离子。
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公开(公告)号：CN113337855B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202110565990.3
申请日：2021-05-24
Applicant: 常州大学 , 江苏铭丰电子材料科技有限公司
Abstract: 本发明属于添加剂分解产物技术领域，具体涉及一种填充材料及制备方法、高频信号传输用电解铜箔的制备方法。本填充材料包括：FeCl3·6H2O：3g；印迹分子：0.15‑3g；DMF：60g；BDC：1g；PC：6‑30g。本填充材料的制备方法包括：将FeCl3·6H2O和印迹分子溶于水中形成反应溶液；反应溶液中加入DMF搅拌溶解；反应溶液中加入BDC搅拌溶解；PC浸渍于反应溶液中搅拌；水热法处理反应溶液，去除添加剂分解产物分子，制备印迹有添加剂分解产物分子铸型结构的填充材料。本发明可有效对添加剂分解产物选择性吸附，达到有效去除添加剂分解产物、使铜的电沉积薄膜中不混入分解产物、实现电流在阴极和阳极上均匀分布、提高品质、制备高频信号传输用电解铜箔的效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113354445A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110565980.X
申请日：2021-05-24
Applicant: 常州大学 , 江苏铭丰电子材料科技有限公司
Abstract: 本发明属于添加剂分解产物去除技术领域，具体涉及一种填充材料及制备方法、高延展性低轮廓电解铜箔制造方法。本填充材料包括：ZrCl4：2.5g；印迹分子：0.25‑25g；DMF：568.8g；BDC：1g；PC：1.25‑25g。本填充材料的制备方法包括：ZrCl4和印迹分子于容器中形成反应物；反应物中加入DMF超声溶解形成反应溶液；反应溶液中加入BDC超声溶解；PC浸渍于反应溶液中搅拌；通过水热法处理反应溶液去除添加剂分解产物分子，制备印迹有添加剂分解产物分子铸型结构的填充材料。本发明可有效对添加剂分解产物选择性吸附，达到有效去除添加剂分解产物、使铜的电沉积薄膜中不混入分解产物、实现电流在阴极和阳极上均匀分布、提高电解铜箔品质以及制备高延展性低轮廓电解铜箔的效果。
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公开(公告)号：CN115096967B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202210676315.2
申请日：2022-06-15
Applicant: 常州大学
IPC: G01N27/30 , G01N27/333 , G01N27/48
Abstract: 本发明提供了一种浴铜灵修饰的膨胀石墨糊电极及电解铜箔的铜电解液中亚铜离子的检测方法，具体包括以下步骤：(1)2,9‑二甲基‑4,7‑联苯‑1,10‑邻二氮杂菲(浴铜灵)修饰的膨胀石墨糊电极的制备；(2)亚铜离子标准溶液的配制；(3)标准曲线的绘制：以浴铜灵修饰的膨胀石墨糊电极为工作电极，铂电极为辅助电极，Ag/AgCl电极作为参比电极，组成三电极体系，用电化学方法检测亚铜离子，得到线性回归方程，绘制标准曲线。(4)待测液的制备；(5)检测。本发明检测限低、检测限为宽、选择性好、成本低、步骤简单，可成功应用于检测铜电解液中的亚铜离子。
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公开(公告)号：CN115652377A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211307416.9
申请日：2022-10-25
Applicant: 常州大学 , 四川铭丰电子材料科技有限公司
IPC: C25D1/04
Abstract: 本发明属于电子铜箔制造技术领域，具体公开一种电解铜箔制备中降低阳极析氧电位的方法。电解铜箔制造工艺中，普遍采用的阳极是钛的氧化铱和氧化钽涂层(IrO2‑Ta2O5/Ti)电极。为了实现降低能耗和保护阳极提高阳极寿命，本发明在电解铜箔的铜电沉积溶液中加入添加剂，即高锰酸钾、重铬酸钾或二者的混合物，由于上述添加剂的加入，使得在阳极(IrO2‑Ta2O5/Ti)上析氧电位下降，进而电解铜箔槽电压的下降。由此，既起到了降低能耗的作用，同时也由于电位的降低，有效地提高了电极寿命。
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公开(公告)号：CN113354445B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202110565980.X
申请日：2021-05-24
Applicant: 常州大学 , 江苏铭丰电子材料科技有限公司
Abstract: 本发明属于添加剂分解产物去除技术领域，具体涉及一种填充材料及制备方法、高延展性低轮廓电解铜箔制造方法。本填充材料包括：ZrCl4：2.5g；印迹分子：0.25‑25g；DMF：568.8g；BDC：1g；PC：1.25‑25g。本填充材料的制备方法包括：ZrCl4和印迹分子于容器中形成反应物；反应物中加入DMF超声溶解形成反应溶液；反应溶液中加入BDC超声溶解；PC浸渍于反应溶液中搅拌；通过水热法处理反应溶液去除添加剂分解产物分子，制备印迹有添加剂分解产物分子铸型结构的填充材料。本发明可有效对添加剂分解产物选择性吸附，达到有效去除添加剂分解产物、使铜的电沉积薄膜中不混入分解产物、实现电流在阴极和阳极上均匀分布、提高电解铜箔品质以及制备高延展性低轮廓电解铜箔的效果。
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公开(公告)号：CN110241432A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910486426.5
申请日：2019-06-05
Applicant: 常州大学 , 江苏铭丰电子材料科技有限公司
Abstract: 本发明提供了电解铜箔制造工艺中快速溶铜的方法，用于制造电解铜箔。该方法优选采用钛电极作阳极，碳棒作阴极，用阴离子交换膜将阳极室和阴极室分开，通入空气进行搅拌，并保证溶铜罐的温度不低于50℃，对铜的溶解罐中的阳极和阴极间施加适当的电压，即可实现铜料的快速溶解，本发明的快速溶铜技术可完全满足电解铜箔的生产需求。
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