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公开(公告)号:CN105734490B
公开(公告)日:2018-12-07
申请号:CN201610121455.8
申请日:2016-03-03
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及薄膜太阳电池制备技术领域,特指一种提高Cu2ZnSnS4半导体薄膜载流子迁移率的方法。其特征在于:在清洗后钠钙玻璃(SLG)上制备Si薄膜,在Si薄膜上制备CZT前驱体薄膜,将制备好的CZT前驱体薄膜在通有H2S的退火炉中高温退火,得到CZTS半导体薄膜;利用Si去替位Sn,Si的掺杂在晶粒与晶粒之间形成了快速通道,从而提高了载流子迁移率。
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公开(公告)号:CN105908132A
公开(公告)日:2016-08-31
申请号:CN201610119256.3
申请日:2016-03-02
Applicant: 常州大学
CPC classification number: C23C14/185 , C23C14/352 , C23C14/5866
Abstract: 本发明涉及薄膜太阳能电池制备技术领域,特指一种新型半导体Cu2ZnTiS4薄膜材料及其制备方法。采用磁控溅射多靶沉积方法,在钠钙玻璃(SLG)衬底表面采用三靶共溅Cu、Zn、Ti制备CZTi前驱体薄膜;将得到的CZT前躯体薄膜在510℃温度下的H2S气氛中保温2个小时,即制备得到Cu2ZnTiS4半导体薄膜。采用本方法制备得到的Cu2ZnTiS4半导体薄膜是一种厚度为200?2000nm,光学吸收系数为104cm?1,载流子类型为P型的,具有延展性的半导体薄膜材料,对于实现薄膜材料完全柔性化具有十分重要的科学意义和工程价值。
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公开(公告)号:CN108054281B
公开(公告)日:2020-03-31
申请号:CN201711192942.4
申请日:2017-11-24
Applicant: 常州大学
IPC: H01L51/48
Abstract: 本发明涉及利用低温溶液反应制备SnO2薄膜的方法,首先制备四氯化锡水溶液,然后制备电子传输层SnO2薄膜。本发明还涉及一种钙钛矿太阳能电池的制备方法,在FTO导电玻璃基底上利用上述SnO2薄膜的制备方法制备SnO2薄膜电子传输层;在SnO2薄膜电子传输层上用旋涂法形成MAPbI3钙钛矿光吸收层;再在MAPbI3钙钛矿光吸收层上采用旋涂法制得空穴传输层;在空穴传输层上用真空蒸镀法蒸镀金属电极,形成钙钛矿薄膜电池。该方法简单,易于操作,并且薄膜的均匀性较好,重复性高,在半导体等光电领域的发展具有科学意义。
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公开(公告)号:CN106384760A
公开(公告)日:2017-02-08
申请号:CN201611041994.7
申请日:2016-11-24
Applicant: 常州大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/068 , H01L31/032
CPC classification number: Y02E10/50 , H01L31/18 , H01L31/0326 , H01L31/068
Abstract: 本发明涉及一种制备Ag2ZnSnS4同质结薄膜电池的方法,首先,提供SLG衬底;在所述SLG衬底上磁控溅射Mo靶材形成Mo电极层;然后,在所述Mo电极层上依次溅射SnS、ZnS、Ag三种靶材,形成叠层AZT前驱体结构;在所述叠层AZT前驱体结构上共同溅射SnS、ZnS、Ag三种靶材,形成AZT前躯体薄膜;将所述AZT前躯体薄膜硫化退火,形成AZTS半导体薄膜;接着,在所述AZTS半导体薄膜上溅射形成本征ZnO层;在所述本征ZnO层上溅射形成ITO层;最后,在ITO层上蒸发制备银电极层,形成Ag2ZnSnS4同质结薄膜电池。该方法简单,易于操作,制备得到的AZTS同质结电池,在半导体领域等方面的发展具有十分重要的科学意义。
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公开(公告)号:CN105734490A
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201610121455.8
申请日:2016-03-03
Applicant: 常州大学
CPC classification number: C23C14/0623 , C23C14/3464 , C23C14/5806
Abstract: 本发明涉及薄膜太阳电池制备技术领域,特指一种提高Cu2ZnSnS4半导体薄膜载流子迁移率的方法。其特征在于:在清洗后钠钙玻璃(SLG)上制备Si薄膜,在Si薄膜上制备CZT前驱体薄膜,将制备好的CZT前驱体薄膜在通有H2S的退火炉中高温退火,得到CZTS半导体薄膜;利用Si去替位Sn,Si的掺杂在晶粒与晶粒之间形成了快速通道,从而提高了载流子迁移率。
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公开(公告)号:CN108054281A
公开(公告)日:2018-05-18
申请号:CN201711192942.4
申请日:2017-11-24
Applicant: 常州大学
IPC: H01L51/48
Abstract: 本发明涉及利用低温溶液反应制备SnO2薄膜的方法,首先制备四氯化锡水溶液,然后制备电子传输层SnO2薄膜。本发明还涉及一种钙钛矿太阳能电池的制备方法,在FTO导电玻璃基底上利用上述SnO2薄膜的制备方法制备SnO2薄膜电子传输层;在SnO2薄膜电子传输层上用旋涂法形成MAPbI3钙钛矿光吸收层;再在MAPbI3钙钛矿光吸收层上采用旋涂法制得空穴传输层;在空穴传输层上用真空蒸镀法蒸镀金属电极,形成钙钛矿薄膜电池。该方法简单,易于操作,并且薄膜的均匀性较好,重复性高,在半导体等光电领域的发展具有科学意义。
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公开(公告)号:CN105908132B
公开(公告)日:2018-03-02
申请号:CN201610119256.3
申请日:2016-03-02
Applicant: 常州大学
Abstract: 本发明涉及薄膜太阳能电池制备技术领域,特指一种半导体Cu2ZnTiS4薄膜材料及其制备方法。采用磁控溅射多靶沉积方法,在钠钙玻璃(SLG)衬底表面采用三靶共溅Cu、Zn、Ti制备CZTi前驱体薄膜;将得到的CZT前躯体薄膜在510℃温度下的H2S气氛中保温2个小时,即制备得到Cu2ZnTiS4半导体薄膜。采用本方法制备得到的Cu2ZnTiS4半导体薄膜是一种厚度为200‑2000nm,光学吸收系数为104cm‑1,载流子类型为P型的,具有延展性的半导体薄膜材料,对于实现薄膜材料完全柔性化具有十分重要的科学意义和工程价值。
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公开(公告)号:CN106384760B
公开(公告)日:2017-09-08
申请号:CN201611041994.7
申请日:2016-11-24
Applicant: 常州大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/068 , H01L31/032
CPC classification number: Y02E10/50
Abstract: 本发明涉及一种制备Ag2ZnSnS4同质结薄膜电池的方法,首先,提供SLG衬底;在所述SLG衬底上磁控溅射Mo靶材形成Mo电极层;然后,在所述Mo电极层上依次溅射SnS、ZnS、Ag三种靶材,形成叠层AZT前驱体结构;在所述叠层AZT前驱体结构上共同溅射SnS、ZnS、Ag三种靶材,形成AZT前驱体薄膜;将所述AZT前驱体薄膜硫化退火,形成AZTS半导体薄膜;接着,在所述AZTS半导体薄膜上溅射形成本征ZnO层;在所述本征ZnO层上溅射形成ITO层;最后,在ITO层上蒸发制备银电极层,形成Ag2ZnSnS4同质结薄膜电池。该方法简单,易于操作,制备得到的AZTS同质结电池,在半导体领域等方面的发展具有十分重要的科学意义。
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