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公开(公告)号:CN110461589A
公开(公告)日:2019-11-15
申请号:CN201880019402.2
申请日:2018-03-28
IPC: B32B9/00 , B32B27/00 , B32B27/30 , C09D133/04 , C09D183/04 , C23C16/42
Abstract: 本发明涉及一种带有硬涂层的高分子基板,依次将高分子基板、基底固化层和氧化硅层直接层叠而成,其中,上述基底固化层的厚度为1~20μm,且含有多官能丙烯酸酯10~90重量份、无机氧化物微粒和/或硅化合物水解缩合物90~10重量份,或者含有有机硅化合物的水解缩合物作为主成分,上述氧化硅层在从上述基底固化层与上述氧化硅层的界面沿厚度方向0.04μm的位置满足下述(a1)的条件,且在与上述界面相反侧的表面满足下述(a3)的条件:(a1)由SiOxCyHz化学组成表示时,x为1.93~1.98的范围,y为0.04~0.15的范围,且z为0.10~0.50的范围,(a3)由SiOxCyHz表示化学组成时,x为1.94~2.02的范围,y为0.05~0.16的范围,且z为0.20~0.50的范围。
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公开(公告)号:CN110461589B
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN201880019402.2
申请日:2018-03-28
IPC: B32B9/00 , B32B27/00 , B32B27/30 , C09D133/04 , C09D183/04 , C23C16/42
Abstract: 本发明涉及一种带有硬涂层的高分子基板,依次将高分子基板、基底固化层和氧化硅层直接层叠而成,其中,上述基底固化层的厚度为1~20μm,且含有多官能丙烯酸酯10~90重量份、无机氧化物微粒和/或硅化合物水解缩合物90~10重量份,或者含有有机硅化合物的水解缩合物作为主成分,上述氧化硅层在从上述基底固化层与上述氧化硅层的界面沿厚度方向0.04μm的位置满足下述(a1)的条件,且在与上述界面相反侧的表面满足下述(a3)的条件:(a1)由SiOxCyHz化学组成表示时,x为1.93~1.98的范围,y为0.04~0.15的范围,且z为0.10~0.50的范围,(a3)由SiOxCyHz表示化学组成时,x为1.94~2.02的范围,y为0.05~0.16的范围,且z为0.20~0.50的范围。
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