检体分析装置以及检体分析方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118624920A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202410253058.0

    申请日:2024-03-06

    Abstract: 本公开涉及检体分析装置以及检体分析方法。增加分析多个检体的情况下的检体分析装置中的每单位时间的检体的处理件数。该检体分析装置(100)具备:架子搬送部(20),搬送收容有多个检体容器(1)的架子(2);搅拌部(12),搅拌检体容器(1)中的检体;吸引部(11),从检体容器(1)吸引检体;容器搬送部(13),在与架子搬送部(20)上的架子(2)、搅拌部(12)以及利用吸引部(11)吸引检体的吸引位置(P6)之间搬送检体容器(1);测定部(16),测定从检体调制出的测定试样;以及控制部(91)。检体分析装置(100)构成为通过控制部(91)的控制,在一个检体容器(1)的搅拌的开始至结束的期间,针对其他检体容器(1)执行向吸引位置(P6)的移送、检体的吸引、以及向架子(2)的返还中的至少一个。

    涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法

    公开(公告)号:CN112146963B

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202010533977.5

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 为了维持涂抹标本制作的处理速度并降低染色液的消费量,本发明提供了一种涂抹标本制作装置(100),其具有:染色部(20),具有能配置涂抹有样本的复数个载玻片(10)并且能存放对涂抹于载玻片(10)的样本染色的染色液(15)的复数个染色槽(21);移送部(30),安放载玻片(10)并将其以一定时间间隔移送至染色部(20);流体回路部(40),对染色部(20)的复数个染色槽(21)分别供应染色液(15);控制部(50),与用户的操作相应地决定复数个染色槽(21)中使用于染色处理的染色槽。

    涂抹标本制作装置及装置中染色槽的清洗方法

    公开(公告)号:CN112676283A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011108568.7

    申请日:2020-10-16

    Abstract: 本发明按照涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。该清洗方法是具有染色槽(20)的涂抹标本制作装置(100)的染色槽(20)的清洗方法,染色槽(20)能够收纳涂抹有样本的载玻片(11),并储存对载玻片(11)上涂抹的样本进行染色的染色液(91)来进行染色处理,该清洗方法具备以下工序:接收清洗条件相关信息的工序、按照接收的清洗条件相关信息对染色槽(20)执行清洗作业的工序。

    分析装置
    6.
    发明公开
    分析装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119643417A

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202411245042.1

    申请日:2024-09-06

    Abstract: 本发明提供能提升受试体分析的通量及红细胞的测定精度的分析装置。分析装置具备用于从受试体调制WDF测定试样的WDF反应室C21、C22,用于从受试体调制RBC/PLT测定试样的RBC/PLT反应室C11,对WDF测定试样进行测定而取得与白细胞相对应的光学信号的光学式测定部381和对RBC/PLT测定试样进行测定而取得与红细胞相对应的电信号的电式测定部382。含由WDF反应室C21调制WDF测定试样及WDF反应室C21中调制的WDF测定试样的测定的期间的至少一部分和含由WDF反应室C22调制WDF测定试样、及,WDF反应室C22中调制的WDF测定试样的测定的期间的至少一部分重复。

    涂抹标本制作装置及涂抹标本制作方法

    公开(公告)号:CN112146963A

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202010533977.5

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 为了维持涂抹标本制作的处理速度并降低染色液的消费量,本发明提供了一种涂抹标本制作装置(100),其具有:染色部(20),具有能配置涂抹有样本的复数个载玻片(10)并且能存放对涂抹于载玻片(10)的样本染色的染色液(15)的复数个染色槽(21);移送部(30),安放载玻片(10)并将其以一定时间间隔移送至染色部(20);流体回路部(40),对染色部(20)的复数个染色槽(21)分别供应染色液(15);控制部(50),与用户的操作相应地决定复数个染色槽(21)中使用于染色处理的染色槽。

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