公开(公告)号：CN106232521A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201580021526.0

申请日：2015-04-24

Applicant: 巴斯夫欧洲公司 ,  马克思—普朗克科学促进协会公司

Inventor： A-J·斯特拉德威克 ,  M·G·施瓦布 ,  K·米伦 ,  H·萨克德夫 ,  N-E·韦伯 ,  A·宾德尔

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C23C16/0227 ,  C01B32/186 ,  C23C16/26 ,  C23C16/46 ,  Y02P20/544

Abstract: 本发明涉及一种制备石墨烯的方法，包括：(i)在化学沉积室中提供具有表面S1的基材；(ii)对基材进行热预处理，同时将至少一种气态或超临界氧化剂供入化学沉积室中，从而使表面S1与所述至少一种气态或超临界氧化剂接触并获得经预处理的表面S2；(iii)在经预处理的表面S2上通过化学沉积制备石墨烯。

公开(公告)号：CN105636932A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201480054536.X

申请日：2014-09-29

Applicant: 巴斯夫欧洲公司 ,  马克思—普朗克科学促进协会公司

Inventor： M·G·施瓦布 ,  K·米伦 ,  H·萨克德夫 ,  伊藤良和

IPC: C07C211/03 ,  C07C211/08 ,  C07C211/09 ,  C23C16/36 ,  C01B31/04

CPC classification number: H01L51/0002 ,  C01B32/186 ,  C23C16/26 ,  C23C16/30 ,  H01L51/002 ,  H01L51/003 ,  H01L51/0045 ,  H01L51/0558 ,  H01L51/42 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明涉及式I的胺前体：(X1-R1)n-NH(3-n)(I)或其铵盐在通过化学气相沉积(CVD)在基底S1上沉积具有0至65重量％的氮含量的石墨烯膜中的用途，其中R1选自(a)C1至C10烷二基，其都可任选被O、NH和NR2的至少一种间隔，(b)烯二基，其都可任选被O、NH和NR2的至少一种间隔，(c)炔二基，其都可任选被O、NH和NR2的至少一种间隔，(d)C6至C20芳族二价结构部分，和(e)CO和CH2CO，X1选自H、OH、OR2、NH2、NHR2或NR22，其中两个基团X1可以一起形成选自化学键、O、NH或NR2的二价基团X2，R2选自C1至C10烷基和C6至C20芳族结构部分，其可任选被一个或多个取代基X1取代，n是1、2或3。