一种Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构的制备方法

    公开(公告)号:CN110202163A

    公开(公告)日:2019-09-06

    申请号:CN201910424526.5

    申请日:2019-05-21

    Abstract: 本发明涉及一种Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构的制备,其制备采用湿化学方法,在制备过程中,以Ag纳米立方体为基体,然后利用电化学置换反应和化学还原制备侧面带凹坑或孔洞的Ag@Au纳米立方体,最后通过电化学置换反应在Ag@Au纳米立方体表面沉积Pd原子,得到侧面带孔洞的Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构。该方法的特征在于:以Ag纳米立方体为基体,以HAuCl4、L-抗坏血酸(C6H8O6)、NaOH、去离子水、十六烷基-三甲基-氯化铵(Cetyltrimethylammonium chloride,CTAC)为原料制备侧面带凹坑或孔洞的Ag@Au纳米立方体,然后在Ag@Au纳米立方体表面以去离子水、十六烷基-三甲基-氯化铵(CTAC)、Na2PdBr4为原料沉积Pd原子,获得Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构。

    一种Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构的制备方法

    公开(公告)号:CN110202163B

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN201910424526.5

    申请日:2019-05-21

    Abstract: 本发明涉及一种Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构的制备,其制备采用湿化学方法,在制备过程中,以Ag纳米立方体为基体,然后利用电化学置换反应和化学还原制备侧面带凹坑或孔洞的Ag@Au纳米立方体,最后通过电化学置换反应在Ag@Au纳米立方体表面沉积Pd原子,得到侧面带孔洞的Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构。该方法的特征在于:以Ag纳米立方体为基体,以HAuCl4、L‑抗坏血酸(C6H8O6)、NaOH、去离子水、十六烷基‑三甲基‑氯化铵(Cetyltrimethylammonium chloride,CTAC)为原料制备侧面带凹坑或孔洞的Ag@Au纳米立方体,然后在Ag@Au纳米立方体表面以去离子水、十六烷基‑三甲基‑氯化铵(CTAC)、Na2PdBr4为原料沉积Pd原子,获得Ag@Au@Pd纳米立方空壳结构。

    一种ZrB2-SiC-B2O3-SiO2-Zr(H3PO4)2涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN110028338A

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201910429128.2

    申请日:2019-05-22

    Abstract: 本发明涉及一种ZrB2-SiC-B2O3-SiO2-Zr(H3PO4)2涂层的制备方法。该涂层以ZrB2、SiC、B2O3、SiO2、H3PO4为原料,通过调节比例职称浆料后利用刷涂的方式将浆料刷在石墨材料表面,其厚度可以通过多次刷涂和调节浆料粘稠度的方法进行调节。该方法制备工艺简单,适用于复杂形状基体材料。该涂层可以在1500℃的高温氧化环境中使用,显著提高了石墨材料的抗氧化性能,具有良好的高温抗氧化性能。

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