一种在SiC衬底上通过点籽晶定位生长大尺寸单晶石墨烯的方法

    公开(公告)号:CN106521618B

    公开(公告)日:2018-10-26

    申请号:CN201610975636.7

    申请日:2016-11-07

    IPC分类号: C30B25/02 C30B29/02

    摘要: 本发明涉及一种在SiC衬底上通过点籽晶定位生长大尺寸单晶石墨烯的方法,包括步骤如下:(1)将SiC进行抛光、清洗后,置于生长炉中,抽真空,升温至1200~1300℃;通入氩气和氢气,升温至1500℃~1600℃,进行氢刻蚀;刻蚀后,关闭氢气,降温至1400~1500℃,保温;氩气氛围降温至800℃~1100℃,将微细导热探针放在SiC衬底上,形成局部过冷点;通入碳源气体和氢气,碳源气体分解后的活性碳源在过冷点处优先生长为石墨烯籽晶;(2)在800℃~1100℃,800~900mbar;碳源气体的供应下,石墨烯以SiC衬底上的籽晶为中心不断长大,得大尺寸单晶石墨烯;(3)生长结束后,通入氩气,降温,即得。本发明不依赖于金属衬底,无需对生长得到的大尺寸单晶石墨烯进行转移,可以直接应用到微电子器件。

    一种在SiC衬底上通过点籽晶定位生长大尺寸单晶石墨烯的方法

    公开(公告)号:CN106521618A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610975636.7

    申请日:2016-11-07

    IPC分类号: C30B25/02 C30B29/02

    CPC分类号: C30B25/02 C30B29/02

    摘要: 本发明涉及一种在SiC衬底上通过点籽晶定位生长大尺寸单晶石墨烯的方法,包括步骤如下:(1)将SiC进行抛光、清洗后,置于生长炉中,抽真空,升温至1200~1300℃;通入氩气和氢气,升温至1500℃~1600℃,进行氢刻蚀;刻蚀后,关闭氢气,降温至1400~1500℃,保温;氩气氛围降温至800℃~1100℃,将微细导热探针放在SiC衬底上,形成局部过冷点;通入碳源气体和氢气,碳源气体分解后的活性碳源在过冷点处优先生长为石墨烯籽晶;(2)在800℃~1100℃,800~900mbar;碳源气体的供应下,石墨烯以SiC衬底上的籽晶为中心不断长大,得大尺寸单晶石墨烯;(3)生长结束后,通入氩气,降温,即得。本发明不依赖于金属衬底,无需对生长得到的大尺寸单晶石墨烯进行转移,可以直接应用到微电子器件。