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公开(公告)号：CN1023704C
公开(公告)日：1994-02-09
申请号：CN89108090.2
申请日：1985-04-26
Applicant: 富山化学工业株式会社
IPC: C07D471/04
Abstract: 本发明涉及一个新的在1-位上有取代的或未取代的芳基及在7-位上有一个氟原子或一个取代的或未被取代的环状氨基的1，4-二氢-4-氧-1，8-二氮杂萘衍生物及其盐的生产方法。
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公开(公告)号：CN1314355A
公开(公告)日：2001-09-26
申请号：CN01101232.3
申请日：1997-02-07
Applicant: 富山化学工业株式会社
IPC: C07D401/04 , A61K31/4709 , A61P31/04
CPC classification number: C07D401/04 , C07F5/025
Abstract: 通式(Ⅰ)的喹偌酮羧酸衍生物或其盐。优选R2为选择取代的环烷基,R3为至少一个选自氢,卤原子,任意取代的低级烷基或烷氧基和选择性保护的羟基或氨基的基团,R4为氢或选择性取代的低级烷基,R5和R6分别为氢,和A为C－Y(其中Y为卤原子,低级烷基或烷氧基(可被卤原子选择取代),或选择保护的羟基)的化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1210533A
公开(公告)日：1999-03-10
申请号：CN97192130.X
申请日：1997-02-07
Applicant: 富山化学工业株式会社
IPC: C07D401/04 , A61K31/475 , C07F5/02
CPC classification number: C07D401/04 , C07F5/025
Abstract: 通式(Ⅰ)的喹偌酮羧酸衍生物或其盐。优选R2为选择取代的环烷基,R3为至少一个选自氢,卤原子,任意取代的低级烷基或烷氧基和选择性保护的羟基或氨基的基团,R4为氢或选择性取代的低级烷基,R5和R6分别为氢,和A为C－Y(其中Y为卤原子,低级烷基或烷氧基(可被卤原子选择取代),或选择保护的羟基)的化合物。
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公开(公告)号：CN100395244C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN01101232.3
申请日：1997-02-07
Applicant: 富山化学工业株式会社
IPC: C07D401/04 , A61K31/4709 , A61P31/04 , C07D215/56 , C07D209/04
CPC classification number: C07D401/04 , C07F5/025
Abstract: 通式(I)的喹偌酮羧酸衍生物或其盐。优选R2为选择取代的环烷基，R3为至少一个选自氢，卤原子，任意取代的低级烷基或烷氧基和选择性保护的羟基或氨基的基团，R4为氢或选择性取代的低级烷基，R5和R6分别为氢，和A为C-Y(其中Y为卤原子，低级烷基或烷氧基(可被卤原子选择取代)，或选择保护的羟基)的化合物。
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公开(公告)号：CN1100053C
公开(公告)日：2003-01-29
申请号：CN97192130.X
申请日：1997-02-07
Applicant: 富山化学工业株式会社
IPC: C07D401/04 , A61K31/475 , C07F5/02
CPC classification number: C07D401/04 , C07F5/025
Abstract: 通式(I)的喹偌酮羧酸衍生物或其盐。优选R2为选择取代的环烷基，R3为至少一个选自氢，卤原子，任意取代的低级烷基或烷氧基和选择性保护的羟基或氨基的基团，R4为氢或选择性取代的低级烷基，R5和R6分别为氢，和A为C-Y(其中Y为卤原子，低级烷基或烷氧基(可被卤原子选择取代)，或选择保护的羟基)的化合物。
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公开(公告)号：CN1070191C
公开(公告)日：2001-08-29
申请号：CN95195310.9
申请日：1995-08-04
Applicant: 富山化学工业株式会社
IPC: C07D401/04 , C07D471/04 , C07F7/22 , A61K31/47 , A61K31/435
CPC classification number: C07D401/04 , C07D471/04 , C07F7/2208
Abstract: 本发明涉及可用作抗菌剂的新的喹诺酮-或萘酮-羧酸衍生物或其盐，该衍生物在7-位具有下式所示取代基：其中优选R3代表至少一个选自下列基团的基团：氢原子，卤素，取代或未取代低级烷基，低级烷氧基或低级烷硫基，硝基，氰基，保护或未保护羟基及保护或未保护氨基；R4代表氢原子，取代或未取代低级烷基，低级亚烷基和与R4结合的碳原子共同形成环烷的基团；R5代表氢原子或取代或未取代低级基或环烷基。
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公开(公告)号：CN1158611A
公开(公告)日：1997-09-03
申请号：CN95195310.9
申请日：1995-08-04
Applicant: 富山化学工业株式会社
IPC: C07D401/04 , C07D471/04 , C07F7/22 , A61K31/47 , A61K31/435
CPC classification number: C07D401/04 , C07D471/04 , C07F7/2208
Abstract: 本发明涉及可用作抗菌剂的新的喹诺酮-或萘酮-羧酸衍生物或其盐，该衍生物在7-位具有下式所示取代基：其中优选R3代表至少一个选自下列基团的基团：氢原子，卤素，取代或未取代低级烷基，低级烷氧基或低级烷硫基，硝基，氰基，保护或未保护羟基及保护或未保护氨基；R4代表氢原子，取代或未取代低级烷基，低级亚烷基和与R4结合的碳原子共同形成环烷的基团；R5代表氢原子或取代或未取代低级烷基或环烷基。
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