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    聚酯膜、干膜抗蚀剂、聚酯膜的制造方法
    3.
    发明公开
    聚酯膜、干膜抗蚀剂、聚酯膜的制造方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN116601567A

    公开(公告)日：2023-08-15

    申请号：CN202180084865.9

    申请日：2021-12-02

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 宫宅一仁 ,  丰岛悠树 ,  江夏泰雄

    IPC: G03F7/004

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种光学用聚酯膜，该光学用聚酯膜的耐擦伤性优异，并且通过将其用于干膜抗蚀剂的制造，即使在使用该干膜形成了高精细的抗蚀剂图案的情况下，也能够形成图案直线性优异的抗蚀剂图案。并且，本发明的课题还在于提供一种干膜抗蚀剂及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为光学用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于聚酯基材的至少一个表面上的含有粒子及树脂的粒子含有层，并且所述聚酯膜具有第1主表面及第2主表面，其中，第2主表面为粒子含有层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面，第2主表面的最大截面高度SRt为20～150nm，粒子含有层的厚度为1～200nm。

    多层膜及其制备方法
    5.
    发明公开
    多层膜及其制备方法 无效

    公开(公告)号：CN102317359A

    公开(公告)日：2012-01-11

    申请号：CN201080008121.0

    申请日：2010-02-16

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 今村直也 ,  江夏泰雄 ,  蜂须贺满则

    IPC: C08J7/04 ,  B32B27/00

    CPC classification number: C08J7/04 ,  B05D3/02 ,  C08J2367/02 ,  C08J2443/04 ,  C09D183/02 ,  Y10T428/259 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667

    Abstract: 多层膜(10)安置有硬涂层(12)和由聚合物化合物形成的膜基底(11)。膜基底(11)的热收缩率(170℃，10分钟)在0.05％至3.0％的范围内。硬涂层(12)通过涂覆涂布液(33)而形成，所述涂布液(33)含有由通式(1)表示的化合物，四烷氧基硅烷，pH在2至6范围内的酸水和水溶性硬化剂。相对于由通式(1)表示的化合物和四烷氧基硅烷的100重量份的总量，酸水的量在60至2000重量份的范围内。在通式(1)中，“R1”是具有1至15个碳并且不含氨基的有机基团。“R2”是甲基或乙基，“R3”是具有1至3个碳的烷基，并且“n”是0或1。(1)R1R2nSi(OR3)3-n。

    压力测量用片材组、压力测量用片材组的制造方法
    6.
    发明公开
    压力测量用片材组、压力测量用片材组的制造方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN116547509A

    公开(公告)日：2023-08-04

    申请号：CN202180078602.7

    申请日：2021-12-20

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 八田政宏 ,  鬼头宏和 ,  山内匡 ,  丰岛悠树 ,  江夏泰雄

    IPC: G01L5/00

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种即使在高温下使用的情况下也难以发生变形及涂膜破损的压力测量用片材组及其制造方法。本发明的压力测量用片材组具备第1片材，其依次具有第1支承体、粘合层、包括内含发色剂的微胶囊及粘合剂的第1层；及第2片材，其具有第2支承体及包含显色剂的第2层，上述第1支承体及上述第2支承体为聚萘二甲酸乙二醇酯片材或芳香族聚酰亚胺片材，上述粘合层包含具有选自芳香族基团、酯键及酰亚胺键中的至少1种基团的树脂X1，上述微胶囊的胶囊壁包含具有芳香族基团的树脂Y1，上述第1层中的上述粘合剂具有在红外吸收光谱中在3200～3500cm‑1具有顶峰的吸收峰或者交联，上述第1层的厚度为0.2μm以上。

    聚酯膜、剥离膜、聚酯膜的制造方法
    7.
    发明公开
    聚酯膜、剥离膜、聚酯膜的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN116137835A

    公开(公告)日：2023-05-19

    申请号：CN202180060001.3

    申请日：2021-07-07

    Applicant: 富士胶片株式会社

    Inventor： 宫宅一仁 ,  丰岛悠树 ,  江夏泰雄 ,  福冈佑记

    IPC: B29C55/12

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥离层表面上的转印痕迹的形成且传送性及剥离层的涂布性优异的剥离膜制造用的聚酯膜。并且，本发明的课题还在于提供一种剥离膜及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为剥离膜制造用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于聚酯基材的一个表面上的含有粒子的涂布层，且具有第1主表面及第2主表面，在第1主表面上形成剥离层以用于制造剥离膜，所述聚酯膜中，第2主表面为涂布层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面，第2主表面的最大突起高度Sp为1nm以上且小于60nm，第2主表面的表面自由能为25～60mJ/m2。

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