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公开(公告)号：CN116137835B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202180060001.3
申请日：2021-07-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C08J7/04 , C08J5/18 , C08L67/02 , C09D123/26 , C09D133/04 , C09D7/61 , C09D7/63 , B32B27/36 , B32B27/00 , B29C55/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥离层表面上的转印痕迹的形成且传送性及剥离层的涂布性优异的剥离膜制造用的聚酯膜。并且，本发明的课题还在于提供一种剥离膜及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为剥离膜制造用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于聚酯基材的一个表面上的含有粒子的涂布层，且具有第1主表面及第2主表面，在第1主表面上形成剥离层以用于制造剥离膜，所述聚酯膜中，第2主表面为涂布层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面，第2主表面的最大突起高度Sp为1nm以上且小于60nm，第2主表面的表面自由能为25～60mJ/m2。
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公开(公告)号：CN109641437B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201780050398.1
申请日：2017-08-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种聚酯薄膜及其制造方法，该聚酯薄膜具有基材薄膜及配置于基材薄膜的至少一侧的面的至少1层图像接受层，基材薄膜包含聚酯和氧化钛粒子，将基材薄膜的厚度设为Tμm时，基材薄膜中的氧化钛粒子的质量基准的含量为满足下述式1的量，表面粗糙度标准偏差Rq为0.01μm～0.12μm，且在与基材薄膜的面方向正交的厚度方向的截面中，具有每一个的平均面积为0.01μm2/个～0.10μm2/个的孔隙，图像接受层的最外表面的表面粗糙度标准偏差Rq为0.01μm～0.1μm。
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公开(公告)号：CN107615172A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680026565.4
申请日：2016-06-02
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种图像接收片材，其在支承体的至少一个面上从支承体侧依次具有：图像接收层，包含树脂，且厚度为1μm以上；以及抗静电层，作为最外层，包含树脂以及选自导电粒子和导电聚合物中的至少1种导电性材料，且厚度小于图像接收层。
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公开(公告)号：CN107615172B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201680026565.4
申请日：2016-06-02
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种图像接收片材，其在支承体的至少一个面上从支承体侧依次具有：图像接收层，包含树脂，且厚度为1μm以上；以及抗静电层，作为最外层，包含树脂以及选自导电粒子和导电聚合物中的至少1种导电性材料，且厚度小于图像接收层。
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公开(公告)号：CN111279262A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201880059310.7
申请日：2018-09-18
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料以及使用上述感光性转印材料的电路布线的制造方法及触控面板的制造方法。所述感光性转印材料具有：临时支承体；及感光性树脂层，包含含有具有酸基被酸分解性基保护的基团的结构单元的聚合物及光产酸剂，在上述临时支承体与上述感光性树脂层之间具有至少1层含有氨基甲酸酯化合物或改性烯烃化合物的层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116547509A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202180078602.7
申请日：2021-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G01L5/00
Abstract: 本发明的课题在于提供一种即使在高温下使用的情况下也难以发生变形及涂膜破损的压力测量用片材组及其制造方法。本发明的压力测量用片材组具备第1片材，其依次具有第1支承体、粘合层、包括内含发色剂的微胶囊及粘合剂的第1层；及第2片材，其具有第2支承体及包含显色剂的第2层，上述第1支承体及上述第2支承体为聚萘二甲酸乙二醇酯片材或芳香族聚酰亚胺片材，上述粘合层包含具有选自芳香族基团、酯键及酰亚胺键中的至少1种基团的树脂X1，上述微胶囊的胶囊壁包含具有芳香族基团的树脂Y1，上述第1层中的上述粘合剂具有在红外吸收光谱中在3200～3500cm‑1具有顶峰的吸收峰或者交联，上述第1层的厚度为0.2μm以上。
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公开(公告)号：CN116137835A
公开(公告)日：2023-05-19
申请号：CN202180060001.3
申请日：2021-07-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B29C55/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥离层表面上的转印痕迹的形成且传送性及剥离层的涂布性优异的剥离膜制造用的聚酯膜。并且，本发明的课题还在于提供一种剥离膜及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为剥离膜制造用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于聚酯基材的一个表面上的含有粒子的涂布层，且具有第1主表面及第2主表面，在第1主表面上形成剥离层以用于制造剥离膜，所述聚酯膜中，第2主表面为涂布层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面，第2主表面的最大突起高度Sp为1nm以上且小于60nm，第2主表面的表面自由能为25～60mJ/m2。
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公开(公告)号：CN114846407A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080088401.0
申请日：2020-12-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/11 , B32B27/00 , B32B27/18 , B32B27/32 , B32B27/36 , G03F7/004 , G03F7/027 , B32B7/06 , G06F3/041
Abstract: 本发明提供一种覆膜的剥离性优异的转印薄膜及层叠体的制造方法。本发明的转印薄膜依次具有临时支承体、感光性组合物层及覆膜，覆膜从感光性组合物层侧依次具有剥离性树脂层及基材，剥离性树脂层的感光性组合物层侧的表面的表面自由能的氢键成分为4.0mN/m以下。
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公开(公告)号：CN116601567A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202180084865.9
申请日：2021-12-02
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供一种光学用聚酯膜，该光学用聚酯膜的耐擦伤性优异，并且通过将其用于干膜抗蚀剂的制造，即使在使用该干膜形成了高精细的抗蚀剂图案的情况下，也能够形成图案直线性优异的抗蚀剂图案。并且，本发明的课题还在于提供一种干膜抗蚀剂及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为光学用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于聚酯基材的至少一个表面上的含有粒子及树脂的粒子含有层，并且所述聚酯膜具有第1主表面及第2主表面，其中，第2主表面为粒子含有层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面，第2主表面的最大截面高度SRt为20～150nm，粒子含有层的厚度为1～200nm。
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公开(公告)号：CN113348078A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202080010696.X
申请日：2020-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B32B27/18 , B32B27/36 , C08F20/28 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/09 , G03F7/11 , G06F3/041 , B32B7/06 , H05K3/06
Abstract: 本发明提供一种感光性转印材料，其具有：临时支承体；及感光性树脂层，设置于上述临时支承体上，上述临时支承体具有含有粒子的粒子含有层，上述临时支承体的与具有感光性树脂层的一侧的面相反侧的面的表面粗糙度为0.02μm～0.20μm，且上述感光性树脂层包含含有具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元的聚合物及光产酸剂。还提供一种使用上述转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法、以及具有粒子含有层，雾度值为0.2％以下，具有上述粒子含有层的一侧的面的表面粗糙度Ra为0.02μm～0.20μm的膜及其制造方法。
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