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公开(公告)号:CN114402256A
公开(公告)日:2022-04-26
申请号:CN202080063592.5
申请日:2020-09-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/075 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/311 , H01L23/532 , C08G73/10
Abstract: 本发明提供一种耐溶剂性优异的有机膜及其制造方法、供于上述有机膜的形成的组合物、包含上述有机膜的层叠体、以及包含上述有机膜或上述层叠体的半导体器件,上述有机膜满足选自下述式(1)及下述式(2)中的至少1个式,式(1):I/A≥2.5;式(2):I/B≥0.5;在上述式(1)或上述式(2)中,I是以q在的范围内对上述有机膜进行中子小角度散射测定时的相对强度值的最大值,A是q在的范围内的相对强度值的最小值,B是q在的范围内的相对强度值的最小值。
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公开(公告)号:CN116457880A
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN202180073635.2
申请日:2021-10-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G11B5/706
Abstract: 本发明提供一种具有非磁性支撑体和含有强磁性粉末的磁性层,在通过小角度X射线散射测定而得的上述非磁性支撑体的小角度X射线散射光谱中,在q值为的区域内,散射强度变化率的极大值下的q值qmax处的散射强度Imax与散射强度变化率的极小值下的q值qmin处的散射强度Imin之比I max/Imin为2.7以上,qmin<qmax,并且上述非磁性支撑体的玻璃化转变温度Tg为140℃以上的磁带、包括上述磁带的磁带盒及磁记录再现装置。
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