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公开(公告)号：CN101394936B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200780007902.6
申请日：2007-03-07
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C1/0826 , B05C1/0808 , B05C11/025
Abstract: 本发明提供了一种即使在高速下通过一涂敷棒(12A，12B，12C)或一涂敷辊(12)将涂敷液施加到一薄片(16)或一薄板介质时，也不会形成具有固定齿距的线的涂敷装置。本发明涉及一种通过一涂敷棒(12C)将涂敷液施加到一连续运行的支撑介质上的涂敷装置。涂敷棒(12C)为一具有一外表面的圆柱体，宽度为P1的凸部和宽度为P2的凹部交替形成在该表面的轴向方向上，以形成具有一恒定齿距P＝P1+P2的一系列的凸部和凹部。每个凸部包括最大高度粗糙度(Rz)为3μm或更小的一平坦部分，且该平坦部分的宽度P3为0.55P或更多。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101394935B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200780007239.X
申请日：2007-02-20
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 成瀬康人
CPC classification number: B05C11/025 , B05C1/0808
Abstract: 一种通过涂敷棒将涂敷液施加到一连续运行的支撑介质且适于进行高速涂敷的涂敷装置。涂敷棒(12C)具有一圆柱体，该圆柱体的外表面具有在涂敷棒的轴向方向上交替形成的宽度为P1的凸部和宽度为P2的凹部，以使一系列的凸部和凹部具有一恒定的齿距P＝P1+P2。每个凸部具有一齿型截面，且具有一宽度P3为0.55P或更多的平坦部分，其形成于位于从齿型截面的顶部(T)向下3μm的齿型截面相对的右端部(R)与左端部(L)之间。
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公开(公告)号：CN101394936A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200780007902.6
申请日：2007-03-07
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C1/0826 , B05C1/0808 , B05C11/025
Abstract: 本发明提供了一种即使在高速下通过一涂敷棒(12A，12B，12C)或一涂敷辊(12)将涂敷液施加到一薄片(16)或一薄板介质时，也不会形成具有固定齿距的线的涂敷装置。本发明涉及一种通过一涂敷棒(12C)将涂敷液施加到一连续运行的支撑介质上的涂敷装置。涂敷棒(12C)为一具有一外表面的圆柱体，宽度为P1的凸部和宽度为P2的凹部交替形成在该表面的轴向方向上，以形成具有一恒定齿距P＝P1+P2的一系列的凸部和凹部。每个凸部包括最大高度粗糙度(Rz)为3μm或更小的一平坦部分，且该平坦部分的宽度P3为0.55P或更多。
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公开(公告)号：CN101394935A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200780007239.X
申请日：2007-02-20
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 成瀬康人
CPC classification number: B05C11/025 , B05C1/0808
Abstract: 一种通过涂敷棒将涂敷液施加到一连续运行的支撑介质且适于进行高速涂敷的涂敷装置。涂敷棒(12C)具有一圆柱体，该圆柱体的外表面具有在涂敷棒的轴向方向上交替形成的宽度为P1的凸部和宽度为P2的凹部，以使一系列的凸部和凹部具有一恒定的齿距P＝P1+P2。每个凸部具有一齿型截面，且具有一宽度P3为0.55P或更多的平坦部分，其形成于位于从齿型截面的顶部(T)向下3μm的齿型截面相对的右端部(R)与左端部(L)之间。
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公开(公告)号：CN101096025B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200710110051.X
申请日：2007-06-19
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C11/025 , B05C3/18 , B05C5/0254
Abstract: 根据本发明的涂敷装置(10)和涂覆方法，当涂敷液从涂敷液供给通道(24)向片材(W)的下表面以帘的形式喷射而在涂敷液供给通道(24)的出口和片材(W)的下表面之间形成涂敷液的流体墙时，进行涂敷，从而，通过所述流体墙可以阻挡与片材一同行进的夹带空气。所述流体墙可以阻挡夹带的空气，因此，即使当片材以足以在片材表面形成夹带空气的膜的高速度行进并涂敷时，也可以实现稳定的涂敷，而没有任何缺陷，例如涂敷膜上的膜切口。
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公开(公告)号：CN101096025A
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200710110051.X
申请日：2007-06-19
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B05C11/025 , B05C3/18 , B05C5/0254
Abstract: 根据本发明的涂敷装置(10)和涂覆方法，当涂敷液从涂敷液供给通道(24)向片材(W)的下表面以帘的形式喷射而在涂敷液供给通道(24)的出口和片材(W)的下表面之间形成涂敷液的流体墙时，进行涂敷，从而，通过所述流体墙可以阻挡与片材一同行进的夹带空气。所述流体墙可以阻挡夹带的空气，因此，即使当片材以足以在片材表面形成夹带空气的膜的高速度行进并涂敷时，也可以实现稳定的涂敷，而没有任何缺陷，例如涂敷膜上的膜切口。
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