-
公开(公告)号：CN1255795C
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN02156087.0
申请日：2002-12-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/2542 , G11B7/247 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/2534 , G11B7/256 , G11B7/259 , G11B7/26 , G11B2007/24612 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716 , Y10T156/1062 , Y10T156/1075 , Y10T156/1085 , Y10T156/13 , Y10T156/1304 , Y10T156/1339
Abstract: 一种光信息记录介质的制造方法，光信息记录介质的磁道间距为200至400nm，槽深为20至150nm，是用波长小于450nm的光记录再生，其特征在于，至少依次具有在衬底上形成金属反射层的金属反射层形成工序、在该金属反射层上形成有机色素系记录层的记录层形成工序、以及在记录层上形成被覆层的被覆层形成工序。
-
公开(公告)号：CN1424721A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：CN02156087.0
申请日：2002-12-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/2542 , G11B7/247 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/2534 , G11B7/256 , G11B7/259 , G11B7/26 , G11B2007/24612 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716 , Y10T156/1062 , Y10T156/1075 , Y10T156/1085 , Y10T156/13 , Y10T156/1304 , Y10T156/1339
Abstract: 一种光信息记录介质的制造方法，光信息记录介质的磁道间距为200至400nm，槽深为20至150nm，是用波长小于450nm的光记录再生，其特征在于，至少依次具有在衬底上形成金属反射层的金属反射层形成工序、在该金属反射层上形成有机色素系记录层的记录层形成工序、以及在记录层上形成被覆层的被覆层形成工序。
-
公开(公告)号：CN1434441A
公开(公告)日：2003-08-06
申请号：CN03101912.9
申请日：2003-01-23
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G11B7/256 , G11B7/24 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/2478 , G11B7/248 , G11B7/249 , G11B7/252 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/254 , G11B7/2542 , G11B7/2578 , G11B7/259 , G11B7/26 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25711 , G11B2007/25713 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716 , Y10S430/146
Abstract: 一种光信息记录介质，在基板上，自基板一侧依次有记录层、中间层、粘合剂层、以及覆盖薄膜，可通过激光的照射进行信息的记录与再生，在所述粘合剂层中，含有其玻璃化转变温度Tg在0℃以下的聚合物。本发明还涉及一种光信息记录介质的制造方法，在基板上设置记录层一侧的表面上，贴附由设置粘接层的覆盖薄膜所构成的覆盖层，且该粘接层与所述表面相接触，所述覆盖层是经过依次层压第1脱模薄膜、粘接层、覆盖薄膜、以及第2脱模薄膜而成的层压体形成工艺、和将该层压体卷成辊状的工艺而制作的，且所述第1脱模薄膜的与所述粘接层的表面相接合的面的中心面平均粗糙度为50nm以下，另一面的中心面平均粗糙度为100nm以下，厚度为20μm以上。
-
公开(公告)号：CN1331136C
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN03101912.9
申请日：2003-01-23
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G11B7/256 , G11B7/24 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/2478 , G11B7/248 , G11B7/249 , G11B7/252 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , G11B7/254 , G11B7/2542 , G11B7/2578 , G11B7/259 , G11B7/26 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25711 , G11B2007/25713 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716 , Y10S430/146
Abstract: 一种光信息记录介质，在基板上，自基板一侧依次有记录层、中间层、粘合剂层、以及覆盖薄膜，可通过激光的照射进行信息的记录与再生，在所述粘合剂层中，含有其玻璃化转变温度Tg在0℃以下的聚合物。本发明还涉及一种光信息记录介质的制造方法，在基板上设置记录层一侧的表面上，贴附由设置粘接层的覆盖薄膜所构成的覆盖层，且该粘接层与所述表面相接触，所述覆盖层是经过依次层压第1脱模薄膜、粘接层、覆盖薄膜、以及第2脱模薄膜而成的层压体形成工艺、和将该层压体卷成辊状的工艺而制作的，且所述第1脱模薄膜的与所述粘接层的表面相接合的面的中心面平均粗糙度为50nm以下，另一面的中心面平均粗糙度为100nm以下，厚度为20μm以上。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.019 seconds)
