公开(公告)号：CN115053130A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202180012994.7

申请日：2021-01-25

Applicant: 富士胶片株式会社 ,  国立大学法人东京大学

Inventor： 椙山卓郎 ,  寺尾祐子 ,  平兮康彦 ,  大塚徹郎 ,  杉岛明典 ,  白石康晴 ,  平田岳史 ,  槙纳好岐

IPC: G01N27/626 ,  G01N27/64 ,  H01J49/10 ,  H01J49/26

Abstract: 本发明提供一种标准试样膜、标准试样、标准试样膜的制造方法、试样组、定量分析方法及转印薄膜，所述标准试样膜用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，其含有有机物，且基于测定位置的金属元素的离子的信号强度的偏差小。本发明的标准试样膜用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，所述标准试样膜含有聚合物及金属元素，且标准试样膜的膜厚的最大高低差为0.50μm以下。

公开(公告)号：CN108778710A

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201780015829.0

申请日：2017-03-03

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 一木孝彦 ,  塚本直树 ,  千贺武志 ,  笠原健裕 ,  寺尾祐子 ,  金山修二

IPC: B32B7/02 ,  B32B15/08 ,  C23C18/18 ,  C23C18/31 ,  H05K3/18

CPC classification number: B32B7/02 ,  B32B15/08 ,  C23C18/18 ,  C23C18/31 ,  H05K3/18

Abstract: 本发明的课题在于提供一种辊对辊中的制造性优异且能够形成与基板的粘附性优异的金属层的带被镀层前体层的薄膜。另外，本发明的另一课题在于提供一种带图案状被镀层的薄膜、以及使用该带图案状被镀层的薄膜的导电性薄膜及触摸面板。本发明的带被镀层前体层的薄膜具有基板、自基板侧依次配置于上述基板上的底涂层及被镀层前体层，在该带被镀层前体层的薄膜中,上述底涂层其表面的硬度为10N/mm2以下且与离型纸的摩擦系数为5以下。

公开(公告)号：CN117813495A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202280053351.1

申请日：2022-07-20

Applicant: 富士胶片株式会社 ,  国立大学法人东京大学

Inventor： 平兮康彦 ,  椙山卓郎 ,  寺尾祐子 ,  岩户薰 ,  平田岳史

IPC: G01N27/62 ,  G01N1/00 ,  G01N23/2258 ,  G01N27/64 ,  H01J49/10 ,  H01J49/26

Abstract: 本发明提供一种标准试样膜或标准试样、标准试样膜的制造方法、试样组、定量分析方法及转印膜，所述标准试样膜或标准试样用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，其含有有机物，且基于测量位置的金属元素的离子的信号强度的偏差小。本发明的标准试样膜用于激光剥蚀电感耦合等离子体质谱法，所述标准试样膜含有聚合物、金属元素及内部标准，标准试样膜的膜厚的最大高低差为0.50μm以下。

公开(公告)号：CN108778710B

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN201780015829.0

申请日：2017-03-03

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 一木孝彦 ,  塚本直树 ,  千贺武志 ,  笠原健裕 ,  寺尾祐子 ,  金山修二

IPC: B32B7/02 ,  B32B15/08 ,  C23C18/18 ,  C23C18/31 ,  H05K3/18

Abstract: 本发明的课题在于提供一种辊对辊中的制造性优异且能够形成与基板的粘附性优异的金属层的带被镀层前体层的薄膜。另外，本发明的另一课题在于提供一种带图案状被镀层的薄膜、以及使用该带图案状被镀层的薄膜的导电性薄膜及触摸面板。本发明的带被镀层前体层的薄膜具有基板、自基板侧依次配置于上述基板上的底涂层及被镀层前体层，在该带被镀层前体层的薄膜中,上述底涂层其表面的硬度为10N/mm2以下且与离型纸的摩擦系数为5以下。