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公开(公告)号:CN106574062A
公开(公告)日:2017-04-19
申请号:CN201580043411.1
申请日:2015-07-22
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C08J5/2275 , B01D53/228 , B01D61/025 , B01D61/46 , B01D69/12 , B01D2325/42 , B01J39/20 , B01J41/14 , B01J47/12 , C08J5/22 , C08J2333/14 , C08J2333/24
Abstract: 本发明提供一种高分子功能性膜及具备高分子功能性膜的堆或装置以及高分子功能性膜的制造方法。本发明的高分子功能性膜具有多孔支撑体、载持于多孔支撑体的树脂层及辅助层,树脂层和辅助层均含有具有阴离子交换基团或阳离子交换基团中的任一个的离子交换性聚合物,树脂层和辅助层中所含的离子交换性聚合物的离子交换性基团的电荷相反,树脂层和辅助层中所含的离子交换性聚合物均为包含由可以在α位具有烷基的丙烯酰基得到的单元的聚合物。
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公开(公告)号:CN113286697A
公开(公告)日:2021-08-20
申请号:CN202080008338.5
申请日:2020-01-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B32B3/14 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01B5/14 , H01B13/00 , G06F3/044 , B32B7/025 , H05K3/02 , H05K3/24
Abstract: 本发明提供一种具有导电性优异且经细线化的导电性细线的导电性基板的制造方法及导电性基板。导电性基板的制造方法具有:工序A,在支撑体上形成包含卤化银、明胶及与明胶不同的高分子的含卤化银感光性层;工序B,对含卤化银感光性层进行曝光之后,进行显影处理,形成包含金属明胶和高分子且线宽为2.0μm以下的细线状的含银层;工序C,对工序B中所获得的含银层实施加热处理;工序D,去除工序C中所获得的含银层中的明胶;及工序E,对工序D中所获得的含银层实施镀覆处理,形成导电性细线,在与导电性细线延伸的方向正交的方向上的导电性细线的垂直截面中,金属存在的区域的宽度为2.0μm以下。
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公开(公告)号:CN106574063B
公开(公告)日:2019-09-24
申请号:CN201580043412.6
申请日:2015-07-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种高分子功能性膜、其制造方法及具备高分子功能性膜的堆或装置。本发明的高分子功能性膜具有表面层和阴离子交换膜或阳离子交换膜,表面层至少含有包含交联结构的聚合物,所述交联结构在交联部具有与阴离子交换膜或阳离子交换膜所具有的离子性基团的电荷相反电荷的离子性基团。
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公开(公告)号:CN106574063A
公开(公告)日:2017-04-19
申请号:CN201580043412.6
申请日:2015-07-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种高分子功能性膜、其制造方法及具备高分子功能性膜的堆或装置。本发明的高分子功能性膜具有表面层和阴离子交换膜或阳离子交换膜,表面层至少含有包含交联结构的聚合物,所述交联结构在交联部具有与阴离子交换膜或阳离子交换膜所具有的离子性基团的电荷相反电荷的离子性基团。
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公开(公告)号:CN110476091B
公开(公告)日:2022-05-06
申请号:CN201880022092.X
申请日:2018-03-02
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种高折射率膜及使用了上述高折射率膜的光学干涉膜,该高折射率膜具有包含粘合剂和扁平状金属粒子的高折射率层,上述扁平状金属粒子的平均粒径除以平均厚度而得到的值为3以上,上述扁平状金属粒子的主平面相对于高折射率层的表面在0°~30°的范围面取向,上述扁平状金属粒子在高折射率层中的体积分数为20体积%以上,上述扁平状金属粒子层叠有2层以上。
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公开(公告)号:CN110476091A
公开(公告)日:2019-11-19
申请号:CN201880022092.X
申请日:2018-03-02
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种高折射率膜及使用了上述高折射率膜的光学干涉膜,该高折射率膜具有包含粘合剂和扁平状金属粒子的高折射率层,上述扁平状金属粒子的平均粒径除以平均厚度而得到的值为3以上,上述扁平状金属粒子的主平面相对于高折射率层的表面在0°~30°的范围面取向,上述扁平状金属粒子在高折射率层中的体积分数为20体积%以上,上述扁平状金属粒子层叠有2层以上。
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