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公开(公告)号：CN103069485A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201180039194.0
申请日：2011-02-23
Applicant: 富士电机株式会社
CPC classification number: G11B5/72 , C23C16/26 , G11B5/725 , Y10T428/265
Abstract: 本发明涉及保护性膜、具有该保护性膜的磁性记录介质、以及保护性膜的制备方法。本发明在降低保护性膜的膜厚度的同时改善保护性膜的持久性和耐腐蚀性，并提升保护性膜表面与润滑膜的粘结强度。本发明还提供具有保护性膜和优异电磁转换特性的磁性记录介质。用于磁性记录介质的保护性膜的特征在于含氟和氮。还提供了一种制备用于磁性记录介质的保护性膜的方法，该方法包括以下步骤：在含有基片和形成于基片顶面上的金属膜层的堆叠体顶面上形成保护性膜，以及在含氟气体和含氮气体中对所述保护性膜进行等离子体处理。
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公开(公告)号：CN103069485B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201180039194.0
申请日：2011-02-23
Applicant: 富士电机株式会社
CPC classification number: G11B5/72 , C23C16/26 , G11B5/725 , Y10T428/265
Abstract: 本发明涉及保护性膜、具有该保护性膜的磁性记录介质、以及保护性膜的制备方法。本发明在降低保护性膜的膜厚度的同时改善保护性膜的持久性和耐腐蚀性，并提升保护性膜表面与润滑膜的粘结强度。本发明还提供具有保护性膜和优异电磁转换特性的磁性记录介质。用于磁性记录介质的保护性膜的特征在于含氟和氮。还提供了一种制备用于磁性记录介质的保护性膜的方法，该方法包括以下步骤：在含有基片和形成于基片顶面上的金属膜层的堆叠体顶面上形成保护性膜，以及在含氟气体和含氮气体中对所述保护性膜进行等离子体处理。
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