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公开(公告)号：CN1920962A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200610116000.3
申请日：2006-08-22
Applicant: 富士电机控股株式会社
CPC classification number: G11B5/8408 , G11B5/7325
Abstract: 本发明提供一种使磁记录介质外周部的润滑层膜厚均匀化、使磁头上浮稳定化的方法。该方法用于制造具有润滑层的磁记录介质，其特征在于，在保护层上涂布液体润滑剂后，一边使磁记录介质(20)旋转，一边利用带按压器件(16)，将含有溶剂的加工带(11)同时按压在所述磁记录介质的端面和数据面的外周部，擦去所述液体润滑剂。非磁性基板的厚度优选为0.635mm以下。另外，涂布液体润滑剂后，进一步施加加热处理，再利用加工带进行擦去。
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