-
公开(公告)号：CN101512340A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780018836.2
申请日：2007-03-23
IPC: G01N33/543 , C07B61/00 , G01N33/551 , C07K14/00
Abstract: 用于形成分子序列(10)的方法包括用包含受保护的反应基团(PL)的至少一个接头(14)衍生无限制基质(12)表面。使基质(12)与包含光生成试剂前体(18)和缓冲液和/或中和剂(20)的溶液(16)接触。光生成试剂(22)在至少部分溶液(16)中产生。设定光生成试剂(22)以起始基质(12)表面上的至少一个活性区域的形成。使单体(24)与活性区域偶联。
Search Results
1
records
(took 0.019 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
