公开(公告)号：CN114456884A

公开(公告)日：2022-05-10

申请号：CN202111667814.7

申请日：2021-12-30

申请人： 安莱博医药(苏州)有限公司

发明人： 郝鹏超 ,  郭斌 ,  夏彧 ,  俞阳 ,  汤昱

IPC分类号： C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D1/28 ,  C11D1/66 ,  C11D1/83 ,  C11D7/60 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/34 ,  C11D3/36 ,  C11D3/37 ,  C11D3/39 ,  C11D3/60

摘要： 本发明提供一种ICP组件清洗剂，ICP组件清洗剂包括强氧化溶液A和清洗剂B，ICP组件先用强氧化溶液A对残留污染物进行氧化降解，再用清洁剂B对已氧化的污染物进行配位清除，按重量份计，强氧化溶液A包括以下组分：8～10份HNO3，1～4份HF，8～12份HCl、1～3份H2O2和71～82份H2O；清洗剂B包括以下组分：10～20份有机酸、10～20份氨水和1～3份巯基苯骈噻唑。本发明的ICP组件清洗剂，在ICP测试结束后对采样锥、截留锥及矩管清洗过程中，该清洁剂可以发挥高效、快速、可靠的清洁效果，从而在仪器测定结果的准确度和精密度方面，采样锥、截留锥及矩管的维护方面及降低元素残留污染等方面发挥重要作用。