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公开(公告)号：CN108646329A
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201810270169.7
申请日：2018-03-29
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明适用于光栅微纳米加工技术领域，提供了一种X射线自支撑闪耀透射光栅的制备方法，制备方法以金属催化刻蚀为核心，金属催化刻蚀的原理是：与金属掩模接触的硅在金属的催化作用下与刻蚀液发生反应而溶解，从而向下刻蚀形成与掩模一致的微结构，该方法制作的光栅支撑结构不会向底部展宽，从而满足光栅有效使用面积大的要求；金属催化刻蚀是湿法刻蚀法，光栅侧壁非常光滑，可以达到100nm RMS量级；金属催化刻蚀技术不需要对准，工艺更为简单。总的来说，本发明与现有技术相比，其有益技术效果体现在：能同时满足X射线自支撑闪耀透射光栅的大有效面积和侧壁光滑的需求；不需要对准，工艺更为简单。
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