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公开(公告)号:CN111458986A
公开(公告)日:2020-07-28
申请号:CN202010319602.9
申请日:2020-04-22
Applicant: 安徽大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及接触式曝光光刻设备技术领域,提供一种倒置接触式光学曝光光刻设备及曝光方法,能够达到出光均匀且效率高、基板高度可调、曝光时间可控的实验效果,并降低了对光刻版磨损,包括水平设置的基板,所述基板的下端边缘通过多个可拆卸式安装的杆架连接有光学平台,光学平台上设有电源、紫外光源装置和时间继电器;所述紫外光源装置与电源、时间继电器通过导线相连接;所述基板的顶端中部开设有自上而下依次向内收缩的放置槽;所述光学平台水平设置,用于保持光刻设备水平放置并固定光刻设备的位置;所述时间继电器用于根据不同条件控制曝光时间。本发明可根据不同条件调节基板高度和曝光时间,达到需要的实验效果。
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公开(公告)号:CN111693510B
公开(公告)日:2023-07-11
申请号:CN202010582500.6
申请日:2020-06-23
Applicant: 安徽大学
IPC: G01N21/65
Abstract: 本发明公开了一种基于温度依赖性拉曼光谱测量二维层状材料热导率的方法。包括以下步骤:设置待测样品的衬底,并基于机械剥离和PDMS转移技术制备待测样品;在室温的环境下,对待测样品进行不同功率下的拉曼光谱测试,进行功率‑波数偏移系数标定;对待测样品进行不同温度下的拉曼光谱测试,进行温度‑波数偏移系数标定;根据特定理论模型和相应的边界条件建立热导率关系曲线;将实验测试数据代入热导率关系曲线提取热导率,利用提取的热导率反向验证假设条件的合理性,进而确定提取热导率的准确性。本发明能够弥补现有技术对微纳尺寸材料热导率测量的限制,同时保证微纳测量精度等问题。
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公开(公告)号:CN111693510A
公开(公告)日:2020-09-22
申请号:CN202010582500.6
申请日:2020-06-23
Applicant: 安徽大学
IPC: G01N21/65
Abstract: 本发明公开了一种基于温度依赖性拉曼光谱测量二维层状材料热导率的方法。包括以下步骤:设置待测样品的衬底,并基于机械剥离和PDMS转移技术制备待测样品;在室温的环境下,对待测样品进行不同功率下的拉曼光谱测试,进行功率-波数偏移系数标定;对待测样品进行不同温度下的拉曼光谱测试,进行温度-波数偏移系数标定;根据特定理论模型和相应的边界条件建立热导率关系曲线;将实验测试数据代入热导率关系曲线提取热导率,利用提取的热导率反向验证假设条件的合理性,进而确定提取热导率的准确性。本发明能够弥补现有技术对微纳尺寸材料热导率测量的限制,同时保证微纳测量精度等问题。
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