一种耦合腔行波管用损耗纽扣的测试工装及其测试方法

    公开(公告)号:CN103018578B

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201210502710.5

    申请日:2012-11-30

    Abstract: 本发明公开一种耦合腔行波管用损耗纽扣的测试工装及其测试方法,包括底板和设置在底板两端上的侧板以及设置侧板上的盖板,底板、两侧板以及盖板构成模拟耦合腔体,在模拟耦合腔体内的两侧板上分别设置有用于放置待侧损耗纽扣的吸收腔,模拟耦合腔体的两端口为标准测试接口,两标准测试接口直接与标量网络仪或矢量网络仪两个接口连接,通过使用标量网络分析仪、失量网络分析仪直接测量S参数得到测量结果。本发明具有通用性,接口设计为符合国家标准的标准接口,可使用标量网络仪或矢量网络仪直接测试S参数,测试结果可在行波管中直接应用,能够满足对损耗纽扣特性的精确测量,具有测试通用性,测试方便、精确,提高了损耗纽扣的吸收效果和使用效果。

    一种平行光栅的制作方法

    公开(公告)号:CN103762136B

    公开(公告)日:2016-02-24

    申请号:CN201410027668.5

    申请日:2014-01-21

    Abstract: 本发明公开了一种平行光栅的制作方法,利用两种不同材料对某种刻蚀溶液的抗刻蚀程度不同,把这两种材料通过压制、打磨等简单机械手段分别制作成两类板体,不同材料制成的板体交叉排列,通过两种板体的尺寸来控制制备光栅的周期,宽度、高度等特征参数。然后把这种交叉排列的板体绑定到一个基板上。最后,通过选择某一刻蚀溶液去除其中一种材料的板体,而留下另一类材料的板体就会形成光栅状结构。本发明所需设备成本低廉,工艺简单,制备出的成品平行光栅具有尺寸精度高、表面及侧面光洁度好、均匀一致性好、硬度强和侧壁陡等优点。

    光栅的制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105068167A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201510493965.3

    申请日:2015-08-12

    Abstract: 本发明公开了一种光栅的制备方法,所述制备方法包括:(1)制备光栅原板;(2)在所述光栅原板上设置L个槽宽d不小于d0,槽深h不小于h0的槽,形成光栅毛坯;(3)将所述光栅毛坯进行电铸;(4)将经过步骤(3)处理的所述光栅毛坯打磨,制得光栅;其中,所述d0为光栅的槽宽,所述h0为光栅的槽深。该光栅的制备方法能够突破加工设备的最小加工宽度的限制,加工出深宽比大、侧面光滑陡峭的光栅。

    梳形光栅的制备方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104459857A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410691930.6

    申请日:2014-11-25

    CPC classification number: G02B5/1847

    Abstract: 本发明公开一种梳形光栅的制备方法,其中,所述制备方法包括:(1)对金属待加工件表面进行抛光,得到初制件;(2)在初制件的一个侧面上等间距地加工出多个凹槽,得到梳形光栅初坯A1;(3)将梳形光栅初坯A1在电解液中进行电镀,得到梳形光栅毛坯A2,所述梳形光栅毛坯A2的凹槽的槽宽等于预设槽宽,所述梳形光栅毛坯A2的凹槽的槽深等于预设槽深;(4)将梳形光栅毛坯A2进行打磨,得到梳形光栅。本发明通过将金属待加工件表面先进行抛光后,而后加工多个凹槽,在具有凹槽的基础上再进行电镀,最后在对其表面进行打磨,从而获得符合要求的梳形光栅。使得其达到要求,不仅操作方法简单,且降低机械设备的精密度要求,节省生产成本。

    一种平行光栅的制作方法

    公开(公告)号:CN103762136A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410027668.5

    申请日:2014-01-21

    Abstract: 本发明公开了一种平行光栅的制作方法,利用两种不同材料对某种刻蚀溶液的抗刻蚀程度不同,把这两种材料通过压制、打磨等简单机械手段分别制作成两类板体,不同材料制成的板体交叉排列,通过两种板体的尺寸来控制制备光栅的周期,宽度、高度等特征参数。然后把这种交叉排列的板体绑定到一个基板上。最后,通过选择某一刻蚀溶液去除其中一种材料的板体,而留下另一类材料的板体就会形成光栅状结构。本发明所需设备成本低廉,工艺简单,制备出的成品平行光栅具有尺寸精度高、表面及侧面光洁度好、均匀一致性好、硬度强和侧壁陡等优点。

    一种毫米波多注行波管倒向场永磁聚焦系统及其制作方法

    公开(公告)号:CN101944469A

    公开(公告)日:2011-01-12

    申请号:CN201010276048.7

    申请日:2010-09-06

    Abstract: 本发明公开了一种毫米波多注行波管倒向场永磁聚焦系统,其由电子枪端盖(1)、第一磁场整流器(2)、第一尖峰产生极靴(3)、磁场倒向极靴(4)、第二尖峰产生极靴(5)、第二磁场整流器(6)、真空密封管壳(7)、收集极端盖(8)、第一永磁体(9)、第二永磁体(10)构成。其通过第一磁场整流器(2)和第二磁场整流器(6)对磁系统的左半边和右半边的磁场进行整流,使得横向磁场减小,不影响电子注的流通率;同时,其通过在聚焦系统中适用多个体积小的第一永磁体(9)及第二永磁体(10),解决了均匀场永磁聚焦系统增益大时永磁体体积大的问题。

    一种耦合腔行波管用损耗纽扣的测试工装及其测试方法

    公开(公告)号:CN103018578A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210502710.5

    申请日:2012-11-30

    Abstract: 本发明公开一种耦合腔行波管用损耗纽扣的测试工装及其测试方法,包括底板和设置在底板两端上的侧板以及设置侧板上的盖板,底板、两侧板以及盖板构成模拟耦合腔体,在模拟耦合腔体内的两侧板上分别设置有用于放置待侧损耗纽扣的吸收腔,模拟耦合腔体的两端口为标准测试接口,两标准测试接口直接与标量网络仪或矢量网络仪两个接口连接,通过使用标量网络分析仪、失量网络分析仪直接测量S参数得到测量结果。本发明具有通用性,接口设计为符合国家标准的标准接口,可使用标量网络仪或矢量网络仪直接测试S参数,测试结果可在行波管中直接应用,能够满足对损耗纽扣特性的精确测量,具有测试通用性,测试方便、精确,提高了损耗纽扣的吸收效果和使用效果。

    一种减小耦合腔行波管谐波输出的慢波结构

    公开(公告)号:CN102064068B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN201010527981.7

    申请日:2010-11-01

    Abstract: 本发明公开了一种减小耦合器行波管谐波输出的慢波结构,其包括驱动段和输出段及将两段隔开的吸收器,所述驱动段和输出段由数目不同的耦合腔组成,相邻的耦合腔之间通过膜片隔开,所述膜片上均设有耦合槽,相邻膜片上耦合槽的位置不同,在所述驱动段及输出段的耦合腔中相邻膜片上耦合槽的相位差为180°,在驱动端末端的相邻膜片上耦合槽的相位差为90°±15°,在输出端末端的相邻膜片上耦合槽的相位差为90°±15°,本发明通过对耦合腔慢波系统的改进,可使得负一次空间谐波的二次谐波的相位提前,其结果是在与电子注相互作用时,输出功率将大大衰减,从而达到减小耦合腔行波管二次谐波功率输出,优化频谱特性的目的。

    一种减小耦合腔行波管谐波输出的慢波结构

    公开(公告)号:CN102064068A

    公开(公告)日:2011-05-18

    申请号:CN201010527981.7

    申请日:2010-11-01

    Abstract: 本发明公开了一种减小耦合器行波管谐波输出的慢波结构,其包括驱动段和输出段及将两段隔开的吸收器,所述驱动段和输出段由数目不同的耦合腔组成,相邻的耦合腔之间通过膜片隔开,所述膜片上均设有耦合槽,相邻膜片上耦合槽的位置不同,在所述驱动段及输出段的耦合腔中相邻膜片上耦合槽的相位差为180°,在驱动端末端的相邻膜片上耦合槽的相位差为90°±15°,在输出端末端的相邻膜片上耦合槽的相位差为90°±15°,本发明通过对耦合腔慢波系统的改进,可使得负一次空间谐波的二次谐波的相位提前,其结果是在与电子注相互作用时,输出功率将大大衰减,从而达到减小耦合腔行波管二次谐波功率输出,优化频谱特性的目的。

    一种毫米波多注行波管倒向场永磁聚焦系统及其制作方法

    公开(公告)号:CN101944469B

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN201010276048.7

    申请日:2010-09-06

    Abstract: 本发明公开了一种毫米波多注行波管倒向场永磁聚焦系统,其由电子枪端盖(1)、第一磁场整流器(2)、第一尖峰产生极靴(3)、磁场倒向极靴(4)、第二尖峰产生极靴(5)、第二磁场整流器(6)、真空密封管壳(7)、收集极端盖(8)、第一永磁体(9)、第二永磁体(10)构成。其通过第一磁场整流器(2)和第二磁场整流器(6)对磁系统的左半边和右半边的磁场进行整流,使得横向磁场减小,不影响电子注的流通率;同时,其通过在聚焦系统中适用多个体积小的第一永磁体(9)及第二永磁体(10),解决了均匀场永磁聚焦系统增益大时永磁体体积大的问题。

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