一种水稻栽培方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114145200B

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202111436974.0

    申请日:2021-11-29

    Abstract: 本发明提供了一种水稻栽培方法,属于水稻栽培技术领域。本发明提供的水稻栽培方法,包括如下步骤:(1)插秧前施入底肥,打浆整地,插秧;(2)插秧后第6~8天追施第一次氮肥;插秧后第12~15天追施第二次氮肥和第一次磷肥;插秧后第25~30天追施第三次氮肥;插秧后第33~36天追施第四次氮肥和第一次钾肥;插秧后第42~48天追施第五次氮肥;(3)水稻成熟后收获。本发明提供的水稻栽培方法通过优化氮肥、磷肥和钾肥的施用时间和施用量,尤其将氮肥精细分配施用,提高了氮肥的利用率,提高了水稻产量,降低了氧化亚氮的排放量,缓解了温室效应。

    一种水稻栽培方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114145200A

    公开(公告)日:2022-03-08

    申请号:CN202111436974.0

    申请日:2021-11-29

    Abstract: 本发明提供了一种水稻栽培方法,属于水稻栽培技术领域。本发明提供的水稻栽培方法,包括如下步骤:(1)插秧前施入底肥,打浆整地,插秧;(2)插秧后第6~8天追施第一次氮肥;插秧后第12~15天追施第二次氮肥和第一次磷肥;插秧后第25~30天追施第三次氮肥;插秧后第33~36天追施第四次氮肥和第一次钾肥;插秧后第42~48天追施第五次氮肥;(3)水稻成熟后收获。本发明提供的水稻栽培方法通过优化氮肥、磷肥和钾肥的施用时间和施用量,尤其将氮肥精细分配施用,提高了氮肥的利用率,提高了水稻产量,降低了氧化亚氮的排放量,缓解了温室效应。

    一种水稻种子的清洗装置

    公开(公告)号:CN215236348U

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202120210031.5

    申请日:2021-01-26

    Abstract: 本实用新型属于农业种植技术领域,涉及一种水稻种子的清洗装置。该清洗装置,包括壳体机构,以及由上至下依次设置于壳体机构上的漂浮物滤除机构、清洗机构,壳体机构包括内壳体、进料口、进水管道、出料管道、出水管道,漂浮物滤除机构包括卷绕组件、过滤组件,卷绕组件包括支座、支架、卷筒、卷绕电机、连接板,过滤组件包括相互连接的滤布和卷绕绳,清洗机构包括位于内壳体内部的过滤筒,以及与过滤筒连接的动力组件。该清洗装置,可将水稻种子中的空壳等漂浮物杂质进行有效分离和去除,清洗效果更佳、清洗效率更高。

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