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公开(公告)号：CN1560352A
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN200410021192.0
申请日：2004-02-23
Applicant: 大连理工大学
IPC: D06M10/00
Abstract: 丝普纶及化纤常压辉光放电等离子体改性研究系统与方法属于化纤改性、辉光放电、等离子体技术领域。涉及一种能在常压下产生大面积、均匀、无损伤的辉光放电等离子体的表面改性系统与技术，适于化纤织物及丝普纶织物改性工艺的实验研究和放电等离子体的特性及等离子体与表面相互作用机理等相关基础研究，用以设计针对新品种的化纤织物的表面改性的工业生产装置；本系统亦可用于丝普纶及化纤织物表面改性的小批量、非流水线生产。它既克服了大气压电晕放电和无声放电等离子体中存在高能量密度的细丝放电对织物造成损伤的困难，又解决了低气压辉光放电等离子体改性装置设备投资大，操作复杂，耗能大等问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1120901C
公开(公告)日：2003-09-10
申请号：CN01101424.5
申请日：2001-01-11
Applicant: 大连理工大学
IPC: C23C16/44 , C23C16/511 , C23C16/513
Abstract: 一种宽运行气压范围无离子损伤的ECR微波等离子体增强低温外延系统与方法，系统由腔耦合型ECR微波等离子体源、真空系统、配气系统、检测与分析及计算机数据采集与控制系统组成；配置有带差分抽气结构的RHEED，可实现原子尺度控制生长的原位实时监测。是适于单质和多元素化合物薄膜，复杂层状结构，超薄层低维结构材料生长的高精密低温外延系统与方法；还能满足等离子体与生长表面的相互作用等相关基础研究的要求。
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公开(公告)号：CN1304678C
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200410021192.0
申请日：2004-02-23
Applicant: 大连理工大学
IPC: D06M10/00
Abstract: 丝普纶及化纤常压辉光放电等离子体改性研究系统与方法属于化纤改性、辉光放电、等离子体技术领域。涉及一种能在常压下产生大面积、均匀、无损伤的辉光放电等离子体的表面改性系统与技术，适于化纤织物及丝普纶织物改性工艺的实验研究和放电等离子体的特性及等离子体与表面相互作用机理等相关基础研究，用以设计针对新品种的化纤织物的表面改性的工业生产装置；本系统亦可用于丝普纶及化纤织物表面改性的小批量、非流水线生产。它既克服了大气压电晕放电和无声放电等离子体中存在高能量密度的细丝放电对织物造成损伤的困难，又解决了低气压辉光放电等离子体改性装置设备投资大，操作复杂，耗能大等问题。
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公开(公告)号：CN1304677C
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200410021191.6
申请日：2004-02-23
Applicant: 大连理工大学
IPC: D06M10/00
Abstract: 丝普纶及化纤织物的常压辉光放电改性应用系统与方法属于化纤改性、辉光放电、等离子体技术领域。涉及一种能在常压下产生大面积、均匀、无损伤的辉光放电等离子体的表面改性系统与技术，适于化纤织物及丝普纶织物改性的工业应用；本系统还能满足研究放电等离子体的特性及等离子体与表面相互作用机理等相关基础研究的要求。它既克服了大气压电晕放电和无声放电等离子体中存在高能量密度的细丝放电对织物造成损伤的困难，又解决了低气压辉光放电等离子体改性装置设备投资大，操作复杂，耗能大等问题。本系统采用稍高于大气压下的辉光放电与多道动密封的方案来缓冲改性室与大气之间的气体交换，可将织物改性工艺接轨进织物染整作业的流水线。
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公开(公告)号：CN1560351A
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN200410021191.6
申请日：2004-02-23
Applicant: 大连理工大学
IPC: D06M10/00
Abstract: 丝普纶及化纤织物的常压辉光放电改性应用系统与方法属于化纤改性、辉光放电、等离子体技术领域。涉及一种能在常压下产生大面积、均匀、无损伤的辉光放电等离子体的表面改性系统与技术，适于化纤织物及丝普纶织物改性的工业应用；本系统还能满足研究放电等离子体的特性及等离子体与表面相互作用机理等相关基础研究的要求。它既克服了大气压电晕放电和无声放电等离子体中存在高能量密度的细丝放电对织物造成损伤的困难，又解决了低气压辉光放电等离子体改性装置设备投资大，操作复杂，耗能大等问题。本系统采用稍高于大气压下的辉光放电与多道动密封的方案来缓冲改性室与大气之间的气体交换，可将织物改性工艺接轨进织物染整作业的流水线。
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公开(公告)号：CN1364946A
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：CN01101424.5
申请日：2001-01-11
Applicant: 大连理工大学
IPC: C23C16/44 , C23C16/511 , C23C16/513
Abstract: 一种宽运行气压范围无离子损伤的ECR微波等离子体增强低温外延系统与技术,系统由腔耦合型ECR微波等离子体源、真空系统、配气系统、检测与分析及计算机数据采集与控制系统组成;配置有带差分抽气结构的RHEED,可实现原子尺度控制生长的原位实时监测。是适于单质和多元素化合物薄膜,复杂层状结构,超薄层微结构材料生长的高精密低温外延系统与技术;还能满足等离子体与生长表面的相互作用等相关基础研究的要求。
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