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公开(公告)号：CN117844379A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410006551.2
申请日：2024-01-02
Abstract: 本发明提供一种单晶硅亚埃级表面抛光用的绿色环保抛光液及应用。本发明包括磨粒、还原剂、分散剂、增稠剂、pH调节剂和去离子水，其中，磨粒为氧化铈和氧化硅中的任一种或相互任意组合；还原剂为碳酸亚铁、过氧化氢、氧化铁和氢气中的至少一种；分散剂为焦磷酸钠、六偏磷酸钠、山梨醇和聚乙二醇中的至少一种；增稠剂为羧甲基纤维素钠、果胶、黄原胶、瓜尔胶、刺槐豆胶和卡拉胶中的至少一种；pH调节剂为食用碱、小苏打和三乙醇胺中至少的一种，通过，pH调节剂将抛光液的pH调至8‑11。上述成分的抛光液，加工过程中通过柔和的化学腐蚀与机械划擦耦合作用，对单晶硅表面进行超光滑超低损伤抛光，抛光后，单晶硅可获得比纳米级更优异的亚埃级表面。
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公开(公告)号：CN117816962A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410016028.8
申请日：2024-01-02
Abstract: 本发明提供一种薄壁复杂空间沟槽型热管的增材‑抛光装备及方法。本发明包括选区激光熔化成形系统和抛光系统，所述选区激光熔化系统用于电子元件支座和薄壁复杂空间沟槽型热管的一体化成形或单独成形薄壁复杂空间沟槽型热管；所述抛光系统用于对成型后的薄壁复杂空间沟槽型热管的内壁进行抛光。本发明空间利用率高、结构紧凑，同时避免传统沟槽型热管拉拔、绕弯后存在的弯曲起皱、压扁塌陷、橘皮、薄壁等加工缺陷。针对增材制造后的空间三维沟槽型热管内表面，存在的粘附粉末、熔渣等成形缺陷，基于空气磨粒射流抛光系统或多相射流抛光系统的射流抛光工艺，具有经济性和高效性。
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公开(公告)号：CN117718551A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202410027373.1
申请日：2024-01-08
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及一种复杂曲面零件多自由度超声电化学辅助抛光装备及加工方法，包括床身和安装于床身内的五轴联动系统、主轴系统、测量系统、链式刀库、数控系统、抛光液循环系统，刀具、待加工工件、抛光液形成闭合回路，组成电化学系统；加工过程中，超声换能器开启，抛光液循环系统将抛光液喷向加工部位，被加工工件作为阳极失去电子，在超声‑电化学‑机械磨抛耦合作用下，去除待加工工件表面材料，实现复杂曲面零件超声电化学辅助抛光，得到表面质量好、表面粗糙度低的工件。本发明全自动加工，通过数控系统控制走刀路径，与传统的机械磨抛相比，显著提高加工后零件的表面粗糙度和形状精度。
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