公开(公告)号：CN116766024A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202310650159.7

申请日：2023-06-02

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 景召 ,  刘欢 ,  姜嘉诚 ,  徐海俊 ,  王浩家 ,  程继安 ,  王郅佶 ,  郭江 ,  张鹏飞 ,  李琳光

IPC: B24B29/02 ,  B24B57/02 ,  B24B57/00 ,  B24B51/00

Abstract: 本发明公开了一种适用于非接触抛光的抛光液精准供给系统，包括主控制器、抛光液循环泵、流量计、集液槽、回流管路、供液桶、冷凝管、粘度计、水槽、电磁阀和热电偶。抛光前，在主控制器上设定抛光液的供给流量、粘度和温度等参数；待抛光液供给流量稳定后，启动抛光主轴，对工件进行非接触抛光。当抛光液温度超过提前预设的温度时，冷却水泵自动开启，向冷凝管内通入冷却水，降低抛光液温度。当抛光液粘度超过提前预设的粘度时，电磁阀自动开启，将水槽内的去离子水按照一定的速度注入供液桶内，调节抛光液的粘度。抛光过程中，抛光液的流量、粘度和温度始终处于一个相对稳定的状态，具有较好的剪切增稠效应，最终实现工件的高效、高质量抛光。

公开(公告)号：CN116690392A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202310650158.2

申请日：2023-06-02

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 景召 ,  刘欢 ,  徐海俊 ,  姜嘉诚 ,  程继安 ,  王浩家 ,  王郅佶 ,  郭江 ,  张鹏飞 ,  李琳光

IPC: B24B29/02 ,  B24B31/00 ,  B24B31/10 ,  B24B57/02 ,  B24B1/00 ,  H05B3/78 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明公开了一种多场复合非接触抛光装置与方法，可通过温度场、电场、磁场、化学场、机械场多场复合下实现工件高效率和高质量的抛光，温度控制系统可以实现非接触抛光液温度的恒定控制，保证抛光进程中抛光液始终在恒定的温度场中保持良好的剪切增稠效应。交变电源在介电介质中极化的磨粒受到介电泳力产生运动，防止在抛光进程中大部分磨粒的沉降，提高抛光去除率。在抛光工具和工件之间施加一个磁场，促使抛光液中磁性磨粒吸附于工件被加工表面，使磨粒能更多地进入到工件复杂表面的角落中，并增大抛光时磨粒对工件表面的压力，提高抛光效率。抛光液中的氧化剂通过磨粒的机械作用去除表面氧化层，这样周而复始最终可达到高质量的表面。