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公开(公告)号：CN115739797A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211386710.3
申请日：2022-11-07
Applicant: 大连理工大学 , 大连理工大学滇西产业发展研究院
Abstract: 本发明属于硅单晶制造技术领域，涉及一种绿色环保可复用硅料清洗液及其制备方法和清洗工艺；所述硅料清洗液包括1#清洗液和2#清洗液；1#清洗液包括基底和氧化层腐蚀剂；2#清洗液包括pH调节剂、氧化剂、基底；硅料清洗液不含任何强酸强碱成分，极大改善了操作人员的工作环境，降低了对操作人员的健康威胁；硅料清洗液对硅料腐蚀性低且可复用，降低了对硅料和清洗液的消耗，降低成本；硅料清洗液组成成分绿色环保，对环境污染小，简单处理后即可进行排放，降低废物废液处理成本；清洗工艺依次清洗去除表面颗粒、无机盐、氧化层、金属污染物、有机物，改进了现有工艺繁琐、冗杂的清洗方式，提高清洗效率，具有广阔的研究价值和工业应用前景。
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公开(公告)号：CN115739797B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211386710.3
申请日：2022-11-07
Applicant: 大连理工大学 , 大连理工大学滇西产业发展研究院
Abstract: 本发明属于硅单晶制造技术领域，涉及一种绿色环保可复用硅料清洗液及其制备方法和清洗工艺；所述硅料清洗液包括1#清洗液和2#清洗液；1#清洗液包括基底和氧化层腐蚀剂；2#清洗液包括pH调节剂、氧化剂、基底；硅料清洗液不含任何强酸强碱成分，极大改善了操作人员的工作环境，降低了对操作人员的健康威胁；硅料清洗液对硅料腐蚀性低且可复用，降低了对硅料和清洗液的消耗，降低成本；硅料清洗液组成成分绿色环保，对环境污染小，简单处理后即可进行排放，降低废物废液处理成本；清洗工艺依次清洗去除表面颗粒、无机盐、氧化层、金属污染物、有机物，改进了现有工艺繁琐、冗杂的清洗方式，提高清洗效率，具有广阔的研究价值和工业应用前景。
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公开(公告)号：CN116276547A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310243294.X
申请日：2023-03-14
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种多自由度大尺寸石英坩埚曲面化学机械磨抛装备及加工方法，包括床身、可移动加工台、坩埚固定吸盘夹具、主轴系统、异形磨抛轮工控柜、磨抛液喷雾系统、超声振动辅助加工系统和数控系统。可移动加工平台可沿Y方向移动，坩埚固定吸盘夹具用于不同尺寸石英坩埚的精确定位和稳定装夹，异形磨抛轮用于坩埚内壁不同部位曲面的磨削和抛光加工，磨抛液喷雾系统用于磨抛过程中供给磨抛液，超声振动辅助加工系统用于提供超声振动辅助磨抛加工以及检测加工过程中的受力情况和稳定性。本发明解决了大尺寸石英坩埚内壁曲面上缺陷及气泡层无法处理的问题，磨抛后的坩埚内壁整洁光滑一致性好，减少了石英坩埚制造中因缺陷等无法使用而形成的浪费。
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公开(公告)号：CN116423351A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310367014.6
申请日：2023-04-07
Applicant: 大连理工大学
IPC: B24B21/16 , B24B21/18 , B24B21/20 , B24B57/02 , B24B51/00 , B24B49/00 , B24B1/04 , B24B41/06 , B24B37/00
Abstract: 本发明提供一种变曲率复杂曲面零件自适应多场辅助化学机械抛光装置及抛光方法。本发明包括机架、壳体、抛光带驱动模块、气动装夹吸盘模块、集液模块、超声施载模块、雾化喷液模块、紫外光照射模块、电控模块及控制面板。本发明基于化学机械抛光原理，通过超声振动提高化学机械抛光液中磨料的机械去除效率，并通过紫外光催化化学机械抛光液，使其中产生氧化活性自由基以提高抛光液与工件之间的化学腐蚀速率，实现零件的高效低损伤超精密抛光。本发明所述装备通过调节合适参数可以实现变曲率复杂曲面零件的高效低损伤化学机械抛光，且加工过程封闭，不会产生粉尘、噪音、有害气体等污染，对环境友好，对人体无伤害。
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