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公开(公告)号:CN101784483A
公开(公告)日:2010-07-21
申请号:CN200880025379.4
申请日:2008-09-18
Applicant: 大洲电子材料株式会社
IPC: C01F5/04
CPC classification number: C01F5/04 , C01P2002/76 , C01P2002/84 , C01P2006/12 , C09K11/616 , C30B23/00 , C30B29/16 , C30B29/60 , H01J9/02 , H01J11/10 , H01J11/40
Abstract: 本发明涉及一种使用气相反应得到的含氟氧化镁粉末以及制备它的方法,更特别涉及一种含氟的氧化镁粉末,其受到电子束激发时产生在220-320nm波长范围具有峰值的阴极光发射。本发明提供了一种使用向镁蒸汽喷射含氟气体和含氧气体的气相反应获得的含氟氧化镁粉末,含0.001-2wt%氟的氧化镁粉的纯度(即含氟氧化镁的纯度)至少为98%,其BET比表面积为0.1-50m2/g。