公开(公告)号：CN100350556C

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200510051760.6

申请日：2005-03-01

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 中川良幸 ,  村田和广

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  H05K3/00

CPC classification number: B01L3/0268 ,  B01J2219/0036 ,  B01J2219/00378 ,  B01J2219/00659 ,  B01J2219/00722 ,  B01L2300/0627 ,  B01L2400/027 ,  B01L2400/0439 ,  C40B40/06 ,  C40B60/14 ,  G01N35/1016 ,  G01N2035/1041 ,  H05K3/125 ,  H05K2201/09727

Abstract: 本发明的目的是提供一种具有优良的通用性且能以高效率进行规定的处理的处理装置。在基板保持架(1)的上方设有能喷出通常粒径的溶液的液滴的通常流体喷射喷嘴(2)、能喷出比通常粒径小的微细粒径的溶液的液滴的微细流体喷射喷嘴(3)和正反射式激光位移计(4)。它们安装在同一支架上，形成头部(10)。头部(10)通过按照来自控制装置全体的控制部(50)的动作指令使X轴驱动部(41)、Y轴驱动部(42、43)和Z轴驱动部(44)动作，可以沿X、Y、Z方向自由移动。因此，能使头部(10)定位在基板保持架(1)上所保持的基板(S)上的任意位置上。由此，可以由各喷嘴向基板(S)上所希望的位置供给溶液的液滴。

公开(公告)号：CN1674217A

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN200510051760.6

申请日：2005-03-01

Applicant: 大日本网目版制造株式会社 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 中川良幸 ,  村田和广

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  H05K3/00

CPC classification number: B01L3/0268 ,  B01J2219/0036 ,  B01J2219/00378 ,  B01J2219/00659 ,  B01J2219/00722 ,  B01L2300/0627 ,  B01L2400/027 ,  B01L2400/0439 ,  C40B40/06 ,  C40B60/14 ,  G01N35/1016 ,  G01N2035/1041 ,  H05K3/125 ,  H05K2201/09727

Abstract: 本发明的目的是提供一种具有优良的通用性且能以高效率进行规定的处理的处理装置。在基板保持架(1)的上方设有能喷出通常粒径的溶液的液滴的通常流体喷射喷嘴(2)、能喷出比通常粒径小的微细粒径的溶液的液滴的微细流体喷射喷嘴(3)和正反射式激光位移计(4)。它们安装在同一支架上，形成头部(10)。头部(10)通过按照来自控制装置全体的控制部(50)的动作指令使X轴驱动部(41)、Y轴驱动部(42、43)和Z轴驱动部(44)动作，可以沿X、Y、Z方向自由移动。因此，能使头部(10)定位在基板保持架(1)上所保持的基板(S)上的任意位置上。由此，可以由各喷嘴向基板(S)上所希望的位置供给溶液的液滴。