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公开(公告)号：CN101276735A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810086700.1
申请日：2008-03-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 中根慎悟
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板热处理装置和喷嘴部件，该装置可防止温度下降，并将所希望温度的热气体更恰当地供给到框体内。基板热处理装置(1A)具有环绕加热板(16)的框体(10)和热空气供给机构，该热空气供给机构具有设置在框体内的喷出喷嘴(20)，并沿着框体(10)的内部上面供给热空气的同时，通过设置在框体(10)的侧壁(13)上的排气口(22)对该热空气进行排气。热空气供给机构具有供给配管(30)和内部配管(31)，该供给配管(30)具备加热器(32)，该内部配管(31)通过框体(10)的侧壁(13)等的内部，将被加热的热空气供给到所述喷出喷嘴(20)中。
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公开(公告)号：CN1815684A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200510125067.9
申请日：2005-11-17
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在维护时位置，能用简单的结构可靠支撑构成处理室的构件。构成基板处理装置(1)的各个处理室(13)的各个主体(131)及上盖(132)，在对基板(W)进行处理时，在按每个构件确定的处理装置框架(11)的内部的处理时位置，由处理装置框架(11)支撑着，但是在进行维护时，在按每个构件确定的维护用框架(21)的内部的维护时位置，由维护用框架(21)支撑着。构成各处理室(13)的各个主体(131)及上盖(132)可在处理时位置和维护时位置之间独立移动。维护用框架(21)独立于处理装置框架(11)，成为在处理装置框架(11)的外部支撑主体(131)及上盖(132)的支撑结构。
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公开(公告)号：CN101276735B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200810086700.1
申请日：2008-03-26
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 中根慎悟
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板热处理装置和喷嘴部件，该装置可防止温度下降，并将所希望温度的热气体更恰当地供给到框体内。基板热处理装置(1A)具有环绕加热板(16)的框体(10)和热空气供给机构，该热空气供给机构具有设置在框体内的喷出喷嘴(20)，并沿着框体(10)的内部上面供给热空气的同时，通过设置在框体(10)的侧壁(13)上的排气口(22)对该热空气进行排气。热空气供给机构具有供给配管(30)和内部配管(31)，该供给配管(30)具备加热器(32)，该内部配管(31)通过框体(10)的侧壁(13)等的内部，将被加热的热空气供给到所述喷出喷嘴(20)中。
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公开(公告)号：CN100399503C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200510125067.9
申请日：2005-11-17
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，在维护时位置，能用简单的结构可靠支撑构成处理室的构件。构成基板处理装置(1)的各个处理室(13)的各个主体(131)及上盖(132)，在对基板(W)进行处理时，在按每个构件确定的处理装置框架(11)的内部的处理时位置，由处理装置框架(11)支撑着，但是在进行维护时，在按每个构件确定的维护用框架(21)的内部的维护时位置，由维护用框架(21)支撑着。构成各处理室(13)的各个主体(131)及上盖(132)可在处理时位置和维护时位置之间独立移动。维护用框架(21)独立于处理装置框架(11)，成为在处理装置框架(11)的外部支撑主体(131)及上盖(132)的支撑结构。
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