光学层叠体
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109196390B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN201780033030.4

    申请日:2017-07-10

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体,其层间的密合性优异,特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异,抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体,该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层,在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层,该光学层叠体的特征在于,上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出,上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面,设置上述干膜层前,在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状,在上述硬涂层的厚度方向的截面中,在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10%厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域,上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30%~80%,并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1~7,通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2%~10%。

    光学层叠体及其制造方法、前面板、以及图像显示装置

    公开(公告)号:CN108602311A

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201780010824.9

    申请日:2017-02-09

    CPC classification number: B32B7/02 G02F1/1333 G02F1/13363 G06F3/041

    Abstract: [1]一种光学层叠体,其为依次具有基材膜、透明导电层和表面保护层的光学层叠体,其中,依照JIS K6911测定的表面电阻率的平均值为1.0×107Ω/□以上、1.0×1010Ω/□以下的范围,并且该表面电阻率的标准偏差σ为5.0×108Ω/□以下;[2]一种光学层叠体,其为依次具有基材膜、透明导电层和表面保护层的光学层叠体,该基材膜为环烯烃聚合物膜,该基材膜的厚度相对于该光学层叠体整体的厚度的比例为80%以上、95%以下,利用动态粘弹性测定装置在频率10Hz、拉伸负荷50N、升温速度2℃/分钟的条件下测得的150℃温度下的该光学层叠体的伸长率为5.0%以上、20%以下;[3]一种光学层叠体,其为依次具有纤维素系基材膜、稳定化层和导电层的光学层叠体,其中,依照JIS K6911测定的表面电阻率的平均值为1.0×107Ω/□以上、1.0×1012Ω/□以下的范围,并且将该表面电阻率的标准偏差σ除以该平均值而得到的值为0.20以下;光学层叠体的制造方法、前面板和图像显示装置。

    光学层叠体
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109196390A

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201780033030.4

    申请日:2017-07-10

    CPC classification number: B32B27/18 B32B27/20 G02B1/115 G02B1/14

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体,其层间的密合性优异,特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异,抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体,该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层,在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层,该光学层叠体的特征在于,上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出,上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面,设置上述干膜层前,在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状,在上述硬涂层的厚度方向的截面中,在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10%厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域,上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30%~80%,并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1~7,通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2%~10%。

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