公开(公告)号：CN113663966A

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN202110836124.3

申请日：2018-02-20

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 早川睦 ,  高木雅敏 ,  铃木和文 ,  田中秀典 ,  秋山勇人

IPC: B08B3/02 ,  B08B5/02 ,  A61L2/20 ,  B65B55/10 ,  A61L101/22

Abstract: 提供能够长期稳定地获得含有过氧化氢的杀菌剂气体的装置的洗净方法。杀菌剂气化装置的洗净方法，对杀菌剂气化装置进行洗净，该杀菌剂气化装置使至少含有过氧化氢及稳定剂的杀菌剂与加热面接触，以使所述杀菌剂气化，通过向所述加热面吹附洗净用液体来洗净所述加热面，所述洗净用液体是水、亦或含有酸性化合物或碱性化合物的水，所述水是经加热、过滤被无菌化的水、纯净水、离子交换水、蒸馏水中的任一种。

公开(公告)号：CN113648669A

公开(公告)日：2021-11-16

申请号：CN202110836118.8

申请日：2018-02-20

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 早川睦 ,  高木雅敏 ,  铃木和文 ,  田中秀典 ,  秋山勇人

IPC: B01D1/00 ,  B01D1/30 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B9/08 ,  B08B9/093

Abstract: 提供能够长期稳定地获得含有过氧化氢的杀菌剂气体的装置的洗净方法。杀菌剂气化装置的洗净方法对杀菌剂气化装置进行洗净，该杀菌剂气化装置使至少含有过氧化氢及稳定剂的杀菌剂与加热面接触，以使所述杀菌剂气化，通过向所述加热面吹附洗净用液体来洗净所述加热面时，所述加热面的温度为50℃～250℃。

公开(公告)号：CN109922669B

公开(公告)日：2023-02-24

申请号：CN201780068663.9

申请日：2017-11-15

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 秋山勇人 ,  高木雅敏 ,  原田学

IPC: A61L2/20 ,  B65B55/10 ,  A61L101/22 ,  A23L3/3409

Abstract: 提供在将含有过氧化氢的杀菌剂气化时，能够得到过氧化氢浓度高的气体的装置。另外，提供能够长期稳定地得到含有过氧化氢的杀菌剂的气体的装置。将杀菌剂气化的加热体的加热面设为铬。另外，将杀菌剂气化的加热体的加热面设为聚四氟乙烯或四氟乙烯全氟烷基乙烯基醚氟树脂、或者设为聚四氟乙烯或四氟乙烯全氟烷基乙烯基醚氟树脂浸渍铬镀层。

公开(公告)号：CN109922669A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201780068663.9

申请日：2017-11-15

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 秋山勇人 ,  高木雅敏 ,  原田学

IPC: A23L3/3409 ,  A61L2/20 ,  B65B55/10 ,  A61L101/22

Abstract: 提供在将含有过氧化氢的杀菌剂气化时，能够得到过氧化氢浓度高的气体的装置。另外，提供能够长期稳定地得到含有过氧化氢的杀菌剂的气体的装置。将杀菌剂气化的加热体的加热面设为铬。另外，将杀菌剂气化的加热体的加热面设为聚四氟乙烯或四氟乙烯全氟烷基乙烯基醚氟树脂、或者设为聚四氟乙烯或四氟乙烯全氟烷基乙烯基醚氟树脂浸渍铬镀层。

公开(公告)号：CN110248684B

公开(公告)日：2021-07-27

申请号：CN201880008762.2

申请日：2018-02-20

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 早川睦 ,  高木雅敏 ,  铃木和文 ,  田中秀典 ,  秋山勇人

IPC: A61L2/20 ,  B65B55/10

Abstract: 提供能够长期稳定地获得含有过氧化氢的杀菌剂气体的装置。设置洗净装置，该洗净装置洗净将杀菌剂气化装置的杀菌剂气化的加热面，在运转一定时间后洗净加热面。

公开(公告)号：CN110248684A

公开(公告)日：2019-09-17

申请号：CN201880008762.2

申请日：2018-02-20

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 早川睦 ,  高木雅敏 ,  铃木和文 ,  田中秀典 ,  秋山勇人

IPC: A61L2/20 ,  B65B55/10

Abstract: 提供能够长期稳定地获得含有过氧化氢的杀菌剂气体的装置。设置洗净装置，该洗净装置洗净将杀菌剂气化装置的杀菌剂气化的加热面，在运转一定时间后洗净加热面。