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公开(公告)号：CN118414579A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202280083904.8
申请日：2022-12-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够通过接近式曝光来实现转印图案的尺寸的微细化及锥角的增大的光掩模。本发明提供一种接近式曝光用光掩模，其是接近式曝光用的光掩模，其具有透明基板、及配置于上述透明基板上的遮光膜，上述遮光膜具有：遮光主部，其形成有大致多边形或大致圆形的开口部；及遮光辅助图案，其配置于上述遮光主部的上述开口部的内侧且与上述遮光主部隔开间隔地形成；上述遮光膜是具有对于曝光的光而使相位偏移180度±45度的相移作用并且上述曝光的光的透射率为1％以上且10％以下的相移膜。
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公开(公告)号：CN112119352B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN201980032507.6
申请日：2019-03-14
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种大型光掩模，其特征在于，其为包含透光性基板、及设于上述透光性基板的表面的遮光图案的大型光掩模，上述遮光图案具有第1低反射膜、遮光性膜及第2低反射膜自上述透光性基板侧起按照该顺序层叠而成的层叠结构，且上述遮光图案的上述透光性基板侧的面对313nm～436nm的波长区域的光的反射率为8％以下。
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公开(公告)号：CN1327360A
公开(公告)日：2001-12-19
申请号：CN01117383.1
申请日：2001-02-23
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: H01L51/0014 , H01L27/3239 , H01L27/3241 , H01L27/3281 , H01L51/0003 , H01L51/0023 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种可简便制造的EL元件及其制造方法,EL元件是至少由第1电极、在该第1电极上形成的EL层和在该EL层上形成的第2电极所形成的EL元件,至少形成1层由光照射产生润湿性变化成分层。
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公开(公告)号：CN112119352A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201980032507.6
申请日：2019-03-14
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种大型光掩模，其特征在于，其为包含透光性基板、及设于上述透光性基板的表面的遮光图案的大型光掩模，上述遮光图案具有第1低反射膜、遮光性膜及第2低反射膜自上述透光性基板侧起按照该顺序层叠而成的层叠结构，且上述遮光图案的上述透光性基板侧的面对313nm～436nm的波长区域的光的反射率为8％以下。
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公开(公告)号：CN1263352C
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN01117383.1
申请日：2001-02-23
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: H01L51/0014 , H01L27/3239 , H01L27/3241 , H01L27/3281 , H01L51/0003 , H01L51/0023 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种可简便制造的EL元件及其制造方法，EL元件是至少由第1电极、在该第1电极上形成的EL层和在该EL层上形成的第2电极所形成的EL元件，至少形成1层由光照射产生润湿性变化成分层。
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