公开(公告)号：CN103717587B

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201280037121.2

申请日：2012-07-27

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 新滨光一 ,  宇积尚登 ,  曾田正博 ,  藤枝茂男 ,  小笠原新

IPC: C07D333/54 ,  C07D409/12 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07D409/12 ,  C07D333/54 ,  Y02P20/55

Abstract: 本发明提供了制造其中R1是氢原子等的式（4）化合物的方法，所述方法通过在存在（a）钯化合物和叔膦或（b）钯卡宾络合物时，在惰性溶剂中或没有溶剂的情况下，将其中X1是离去基团的式（2）化合物与其中R1如上文定义的式（3）化合物反应来实现。本发明可以以高纯度和高产量、且通过简单操作制造式（4）化合物。

公开(公告)号：CN103717587A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201280037121.2

申请日：2012-07-27

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 新滨光一 ,  宇积尚登 ,  曾田正博 ,  藤枝茂男 ,  小笠原新

IPC: C07D333/54 ,  C07D409/12 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07D409/12 ,  C07D333/54 ,  Y02P20/55

Abstract: 本发明提供了制造其中R1是氢原子等的式（4）化合物的方法，所述方法通过在存在（a）钯化合物和叔膦或（b）钯卡宾络合物时，在惰性溶剂中或没有溶剂的情况下，将其中X1是离去基团的式（2）化合物与其中R1如上文定义的式（3）化合物反应来实现。本发明可以以高纯度和高产量、且通过简单操作制造式（4）化合物。

公开(公告)号：CN109912526A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201910130142.2

申请日：2013-08-29

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 冈田稔 ,  株木隆志 ,  藤枝茂男 ,  古关直

IPC: C07D263/32 ,  C07D413/12

Abstract: 本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。(1)

公开(公告)号：CN109879828A

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201910152842.1

申请日：2013-08-29

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 冈田稔 ,  株木隆志 ,  藤枝茂男 ,  古关直

IPC: C07D263/32

Abstract: 本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。

公开(公告)号：CN113383001A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202080011039.7

申请日：2020-01-22

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 株木隆志 ,  藤枝茂男

IPC: C07F9/553

Abstract: 本发明涉及一种生产式(1)所示磷酸酯化合物的碱金属盐或碱土金属盐的方法，所述方法包括对式(2)所示化合物、氧卤化磷和选自碱金属氢氧化物和碱土金属氢氧化物的一个或多个成员进行叠缩连续反应的步骤。

公开(公告)号：CN104603116A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201380045266.1

申请日：2013-08-29

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 冈田稔 ,  株木隆志 ,  藤枝茂男 ,  古关直

IPC: C07D263/32

CPC classification number: C07D263/32

Abstract: 本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。(1)