公开(公告)号：CN104603116A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201380045266.1

申请日：2013-08-29

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 冈田稔 ,  株木隆志 ,  藤枝茂男 ,  古关直

IPC: C07D263/32

CPC classification number: C07D263/32

Abstract: 本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。(1)

公开(公告)号：CN109912526A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201910130142.2

申请日：2013-08-29

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 冈田稔 ,  株木隆志 ,  藤枝茂男 ,  古关直

IPC: C07D263/32 ,  C07D413/12

Abstract: 本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。(1)

公开(公告)号：CN109879828A

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201910152842.1

申请日：2013-08-29

Applicant: 大塚制药株式会社

Inventor： 冈田稔 ,  株木隆志 ,  藤枝茂男 ,  古关直

IPC: C07D263/32

Abstract: 本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式-CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。