公开(公告)号：CN116724256A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202280010573.5

申请日：2022-01-26

Applicant: 大仓工业株式会社

Inventor： 后藤圭亮 ,  野间一范 ,  森本浩之 ,  矢野隆久

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种抑制偏光膜的因热收缩引起的外观不良、且耐久性优异的新颖的偏振片。一种偏振片，是具备由聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜、以及在上述偏光膜的至少一侧的面介由接合层而层叠的具有透光性的支承基材的偏振片，上述接合层由通过化学键将上述偏光膜和上述支承基材连接的分子接合剂构成。

公开(公告)号：CN118829913A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202380024868.2

申请日：2023-02-28

Applicant: 大仓工业株式会社

Inventor： 矢野隆久 ,  后藤圭亮 ,  野间一范 ,  森本浩之

IPC: G02B5/30 ,  B29C65/52 ,  B32B7/023 ,  B32B27/00 ,  B32B27/30

Abstract: 本发明的目的在于提供一种偏光膜与支撑基材等其他构件的密合性优异的在表面具有接合层的带接合层的偏光膜。一种带接合层的偏光膜，具有包含聚乙烯醇系树脂的偏光膜、并且在偏光膜的至少一面具有接合层，所述接合层包含通过化学键结而进行接合的分子接合剂，所述带接合层的偏光膜的特征在于：分子接合剂包含三嗪衍生物，接合层表面的利用X射线光电子分光法测定的氮(N)原子浓度为12.0atm％以下。

公开(公告)号：CN119630994A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202380055615.1

申请日：2023-07-20

Applicant: 大仓工业株式会社

Inventor： 大西一真 ,  后藤圭亮 ,  矢野隆久

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明的目的在于提供一种抑制因光能等所致的偏光板的外观不良、耐久性优异的附无机基板的偏光板。本发明的附无机基板的偏光板的特征在于具备偏光板与在偏光板的至少一面上介隔接合层而层叠的具有透光性的无机基板，其中，接合层是通过化学键结而接合偏光板与无机基板的由包含三嗪衍生物的分子接合剂所成。

公开(公告)号：CN114364722A

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202080059779.8

申请日：2020-08-25

Applicant: 大仓工业株式会社

Inventor： 后藤圭亮 ,  西秀树 ,  矢野隆久

IPC: C08J7/04 ,  B44C3/02 ,  B44C5/00 ,  C08L69/00 ,  C09D175/14

Abstract: 以往，由聚碳酸酯系树脂构成的装饰膜为了得到耐擦伤性而设置有硬涂层。但是，为了得到充分的表面硬度，需要使硬涂层的厚度变厚，由于其硬度，存在装饰膜所要求的成型时的成型性恶化的技术问题。因此，希望开发出一种解决该技术问题的新型的装饰膜。一种装饰膜，为由固化树脂组合物层和聚碳酸酯系树脂层构成的层叠体，所述固化树脂组合物层由重均分子量为1000～10000的双官能团氨酯(甲基)丙烯酸酯系低聚物(A)与反应性稀释单体(B)的反应而得到。