公开(公告)号：CN101782729A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN201010004490.4

申请日：2010-01-21

Applicant: 夏普株式会社 ,  关东电化工业株式会社

Inventor： 和田统 ,  岩松正 ,  加本贵则 ,  吉冈伸之 ,  松浦夏辉 ,  关信博 ,  林政友

IPC: G03G9/113 ,  G03G15/08

CPC classification number: G03G9/1136 ,  G03G9/107 ,  G03G2215/0607

Abstract: 提供树脂包覆载体、双组分显影剂、显影装置和图像形成装置。所述树脂包覆载体能使外添加了大粒径的外添加剂的调色剂长期稳定地带电，且能防止显影剂的结块。其如下构成：将树脂包覆层(2b)中含有的具有最小重均分子量的有机硅树脂的重均分子量设为Ma、将具有最大重均分子量的有机硅树脂的重均分子量设为Mb，Ma和Mb满足式(1)，log(Mb/Ma)＞2…(1)将通过进行搅拌试验得到的1000V/cm的电场下的体积电阻值(Ω/cm)设为A、将所述搅拌试验前的1000V/cm的电场下的体积电阻值(Ω/cm)设为B，A和B满足式(2)，0.5≤-log(A/B)≤2.5…(2)。

公开(公告)号：CN101782729B

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201010004490.4

申请日：2010-01-21

Applicant: 夏普株式会社 ,  关东电化工业株式会社

Inventor： 和田统 ,  岩松正 ,  加本贵则 ,  吉冈伸之 ,  松浦夏辉 ,  关信博 ,  林政友

IPC: G03G9/113 ,  G03G15/08

CPC classification number: G03G9/1136 ,  G03G9/107 ,  G03G2215/0607

Abstract: 提供树脂包覆载体、双组分显影剂、显影装置和图像形成装置。所述树脂包覆载体能使外添加了大粒径的外添加剂的调色剂长期稳定地带电，且能防止显影剂的结块。其如下构成：将树脂包覆层(2b)中含有的具有最小重均分子量的有机硅树脂的重均分子量设为Ma、将具有最大重均分子量的有机硅树脂的重均分子量设为Mb，Ma和Mb满足式(1)，log(Mb/Ma)＞2…(1)将通过进行搅拌试验得到的1000V/cm的电场下的体积电阻值(Ω/cm)设为A、将所述搅拌试验前的1000V/cm的电场下的体积电阻值(Ω/cm)设为B，A和B满足式(2)，0.5≤-log(A/B)≤2.5…(2)。

公开(公告)号：CN1768307A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：CN200480009104.3

申请日：2004-03-26

Applicant: 关东电化工业株式会社

Inventor： 饭沼秀彦 ,  原研吉 ,  林政友

IPC: G03G9/10

Abstract: 本发明提供由符合环境规定的环境友好材料组成的Mg基铁氧体载体，和包括该载体的电子照相显影剂。本发明的载体和显影剂实现了高图像质量和改进的明暗属性。本发明还提供制备该Mg基铁氧体材料的方法，该Mg基铁氧体材料具有30－80emu/g的饱和磁化强度、和1.0－5.0kV的介质击穿电压、并具有通式(1)的组成。通过控制烧结和热处理条件，获得上述性质。CaaMgbFecOd(1)这里，a、b和c满足0.10≤b/(b+c/2)≤0.85和0≤R(Ca)≤0.10；R(Ca)表示为R(Ca)＝a×Fw(CaO)/(a×Fw(CaO)+b×Fw(MgO)＋(c/2)×Fw(Fe2O3)) (Fw(A)：A的分子量)；以及d取决于Ca、Mg和Fe的氧化数。

公开(公告)号：CN100557726C

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：CN200480032223.0

申请日：2004-11-05

Applicant: 关东电化工业株式会社

Inventor： 饭沼秀彦 ,  林政友 ,  松浦夏树 ,  小熊幸成

IPC: H01F1/34 ,  C04B35/26 ,  G03G9/00 ,  H01F1/36

Abstract: 本发明提供了一种具有高电介质击穿电压和适于电子照相显影饱和磁化强度的镁基铁氧体、包含铁氧体的载剂和包含该载剂的电子照相显影剂。本发明的镁基铁氧体材料包含Li、Na、K、Rb、Cs、Ca、Sr、Ba、Y、La、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Al、Ga、Si、Ge、P、Sb、Bi或其组合。该镁基铁氧体材料的饱和磁化强度为30至80emu/g，电介质击穿电压为1.5至5.0kV。该镁基铁氧体材料能实现高的影像质量且符合环境规范。

公开(公告)号：CN101120420A

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN200480032223.0

申请日：2004-11-05

Applicant: 关东电化工业株式会社

Inventor： 饭沼秀彦 ,  林政友 ,  松浦夏树 ,  小熊幸成

IPC: H01F1/34 ,  C04B35/26 ,  G03G9/00 ,  H01F1/36

Abstract: 本发明提供了一种具有高电介质击穿电压和适于电子照相显影饱和磁化强度的镁基铁氧体、包含铁氧体的载剂和包含该载剂的电子照相显影剂。本发明的镁基铁氧体材料包含Li、Na、K、Rb、Cs、Ca、Sr、Ba、Y、La、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Al、Ga、Si、Ge、P、Sb、Bi或其组合。该镁基铁氧体材料的饱和磁化强度为30至80emu/g，电介质击穿电压为1.5至5.0kV。该镁基铁氧体材料能实现高的影像质量且符合环境规范。