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公开(公告)号：CN110320710B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201910242363.9
申请日：2019-03-28
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供可抑制具有视角依赖性的显示不均的液晶面板。一种液晶面板，其依次具备：第一基板，其具有多个像素电极、多根栅极布线以及第一取向膜；液晶层；以及第二基板，其具有共用电极和第二取向膜，在行方向上连续的至少30个像素中，晶畴排列相同，多根栅极布线在显示单位区域的行之间通过并延伸，位于第n行的显示单位区域中的晶畴配置顺序是第一晶畴、第二晶畴、第三晶畴、第四晶畴的顺序，位于第n+1行的显示单位区域中的晶畴配置顺序是第一晶畴以及第四晶畴位于第二晶畴以及第三晶畴之间，像素电极具有与各晶畴的取向矢量平行的多根微小狭缝。
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公开(公告)号：CN109313369B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN201780036400.X
申请日：2017-06-07
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供在对光取向膜照射偏光时，即便在偏光向基板的入射角不是0°的情况，也能将液晶分子的取向方位角θ设为所期望的角度的偏光照射装置及使用了所述偏光照射装置的液晶显示装置的制造方法。本发明的偏光照射装置在设置于基板(10)上的光取向膜的取向处理中被使用，包括：载台(250)，具有载置基板(10)的载置面(251)；以及偏光照射部(260)，从相对于载置面(251)的法线倾斜的方向经由偏光件(210)朝向载置面(251)照射偏光；当将基板(10)的长度方向设为0°时，从偏光的照射轴方向观察时，将偏光件(210)的偏光轴投影到载置面(251)时的偏光件(210)的偏光轴的角度即偏光方位角α满足30°＜α＜45°、45°＜α＜60°、‑60°＜α＜‑45°或‑45°＜α＜‑30°。
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公开(公告)号：CN110320711A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910242662.2
申请日：2019-03-28
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供可抑制具有视角依赖性的显示不均的液晶面板。所述液晶面板依次具备：具有多个像素电极和第一取向膜的第一基板、液晶层、以及具有共用电极和第二取向膜的第二基板，在行方向上连续的至少30个像素中，晶畴排列相同，位于第n行的显示单元区域中的晶畴配置顺序为第一晶畴、第二晶畴、第三晶畴以及第四晶畴的顺序，位于第n+1行的显示单元区域中的晶畴配置顺序为第一晶畴以及第四晶畴位于第二晶畴以及第三晶畴之间，像素电极在与位于显示单元区域的两端的晶畴的至少一个重叠的区域设置有切口，具有与各晶畴的取向矢量平行的多条微小狭缝。
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公开(公告)号：CN109313369A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780036400.X
申请日：2017-06-07
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供在对光取向膜照射偏光时，即便在偏光向基板的入射角不是0°的情况，也能将液晶分子的取向方位角θ设为所期望的角度的偏光照射装置及使用了所述偏光照射装置的液晶显示装置的制造方法。本发明的偏光照射装置在设置于基板(10)上的光取向膜的取向处理中被使用，包括：载台(250)，具有载置基板(10)的载置面(251)；以及偏光照射部(260)，从相对于载置面(251)的法线倾斜的方向经由偏光件(210)朝向载置面(251)照射偏光；当将基板(10)的长度方向设为0°时，从偏光的照射轴方向观察时，将偏光件(210)的偏光轴投影到载置面(251)时的偏光件(210)的偏光轴的角度即偏光方位角α满足30°＜α＜45°、45°＜α＜60°、-60°＜α＜-45°或-45°＜α＜-30°。
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公开(公告)号：CN1445986A
公开(公告)日：2003-10-01
申请号：CN03121626.9
申请日：2003-03-18
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 寺下慎一
CPC classification number: H01L51/5287 , C09K11/574 , C09K11/586 , C09K11/7718 , C09K11/7747 , H01L27/3211 , H01L27/322 , H01L27/3244 , H01L27/3281 , H01L33/20 , H01L33/24 , H01L33/58 , H01L51/5262
Abstract: 一种显示装置包括光纤半导体发光元件阵列。每个光纤半导体发光元件包括多层结构和光纤，该多层结构具有第一电极层、第二电极层和至少部分地由该第一和第二电极层夹在中间的半导体发光层，该光纤用于支撑该多层结构并传播发光层发射的光。该显示装置还包括驱动连接器，驱动连接器包括开关元件或多个第一和第二导线，驱动连接器分别与第一和第二电极层电连接，用于驱动多个光纤半导体发光元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110320709B
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN201910239476.3
申请日：2019-03-27
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1343
Abstract: 本发明提供抑制由微细狭缝的线宽不一致引起的亮度不均的液晶面板及其制造方法。该液晶面板依次具备：具有多个像素电极和第一取向膜的第一基板、液晶层、以及具有共用电极和第二取向膜的第二基板，其中，该液晶面板在行方向上连续的至少30个像素中，晶畴排列相同，位于第n行的显示单元区域中的晶畴配置顺序是第一晶畴、第二晶畴、第三晶畴以及第四晶畴的顺序，多个像素电极包含第一像素电极，上述第一像素电极具有以下结构：在与第一晶畴重叠的区域、与第二晶畴重叠的区域、与第三晶畴重叠的区域以及与第四晶畴重叠的区域中的至少一个区域中，设置有与所对应的晶畴的取向矢量平行的微细狭缝，并且在其余的区域中，并未设置微细狭缝。
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公开(公告)号：CN108138331A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680060184.8
申请日：2016-10-06
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含：(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下，以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序；以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。
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公开(公告)号：CN103097948B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201180042140.X
申请日：2011-08-23
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133753 , G02F1/133723 , G02F1/133788
Abstract: 为了提高液晶面板和液晶显示装置的基本性能和高画质化，在能够实现均匀的显示品质和高可靠性的光取向性、优异的电光学特性（透过率、对比度、视野角、响应）的光取向液晶面板中，作为光取向膜，优选的聚合物的结构组成不明。本发明，作为光取向膜，为了能够通过含有具有光取向性的化合物而具有光取向性，将光聚合物共聚比和改性比优化，发现了优选的聚合物的结构组成。本发明的目的是高效地生产和提供具有优异的电特性光学特性、且具有充分的液晶显示品质和可靠性的显示面板和液晶显示装置。
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公开(公告)号：CN103097948A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201180042140.X
申请日：2011-08-23
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133753 , G02F1/133723 , G02F1/133788
Abstract: 为了提高液晶面板和液晶显示装置的基本性能和高画质化，在能够实现均匀的显示品质和高可靠性的光取向性、优异的电光学特性（透过率、对比度、视野角、响应）的光取向液晶面板中，作为光取向膜，优选的聚合物的结构组成不明。本发明，作为光取向膜，为了能够通过含有具有光取向性的化合物而具有光取向性，将光聚合物共聚比和改性比优化，发现了优选的聚合物的结构组成。本发明的目的是高效地生产和提供具有优异的电特性光学特性、且具有充分的液晶显示品质和可靠性的显示面板和液晶显示装置。
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公开(公告)号：CN102298235A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201110163242.9
申请日：2007-01-25
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1337 , G03F7/20
CPC classification number: G02F1/133788 , G02F1/133753
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置的制造方法，即使分割基板进行取向处理的情况下，也能够抑制显示画面上产生接缝，能够提高成品率。该制造方法包括将基板面内分割为两个以上的曝光区域，通过设置有透光部和遮光部的光掩模在每个曝光区域中进行取向膜的曝光的曝光工序，在对光源和光掩模的组合、以及基板中的至少任一个进行扫描的同时进行扫描曝光，并且以相邻的曝光区域的一部分重复的方式重复曝光，该光掩模具有配置有透光部的半色调部，该透光部的开口率小于在其它部分设置的透光部的开口率，该半色调部与重复曝光的区域对应设置，重复曝光的区域的曝光量的合计相对于不重复曝光的区域的曝光量为70～150％。
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