雪崩光电二极管
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109804472A

    公开(公告)日:2019-05-24

    申请号:CN201780060588.1

    申请日:2017-06-12

    Abstract: 雪崩光电二极管包括:第一导电型半导体层(2),形成于第一导电型的半导体基板(1)内;第一第二导电型半导体层(3),在俯视基板时以隔开间隔包围第一导电型半导体层(2)的方式形成;第二第二导电型半导体层(5),以与第一导电型半导体层(2)的底部相接的方式形成在比第一导电型半导体层(2)深的位置;以及第三第二导电型半导体层(6),以与第二第二导电型半导体层(5)的底部相接的方式形成在比第二第二导电型半导体层(5)深的位置。由第一导电型半导体层(2)与第二第二导电型半导体层(5)形成雪崩结。以使半导体基板(1)与第一导电型半导体层(2)电气分离的方式将第一、第三第二导电型半导体层(3、6)连接。

    雪崩光电二极管
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109804472B

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN201780060588.1

    申请日:2017-06-12

    Abstract: 雪崩光电二极管包括:第一导电型半导体层(2),形成于第一导电型的半导体基板(1)内;第一第二导电型半导体层(3),在俯视基板时以隔开间隔包围第一导电型半导体层(2)的方式形成;第二第二导电型半导体层(5),以与第一导电型半导体层(2)的底部相接的方式形成在比第一导电型半导体层(2)深的位置;以及第三第二导电型半导体层(6),以与第二第二导电型半导体层(5)的底部相接的方式形成在比第二第二导电型半导体层(5)深的位置。由第一导电型半导体层(2)与第二第二导电型半导体层(5)形成雪崩结。以使半导体基板(1)与第一导电型半导体层(2)电气分离的方式将第一、第三第二导电型半导体层(3、6)连接。

    雪崩光电二极管
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108369968B

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN201680070709.6

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 雪崩光电二极管包括:形成于第一导电型的基板(1)的第一导电型的第一半导体层(3);形成于第一半导体层(3)下并与第一导电型为相反的第二导电型的第二半导体层(2);形成于基板(1)的第一半导体层(3)的浅的部分并与第一半导体层(3)的杂质浓度相比为高浓度的第一导电型的第三半导体层(7);形成于第三半导体层(7)的正下方的第一半导体层(3)内的区域的第一导电型的第四半导体层(6);与第一半导体层(3)电性地连接的第一接点(11);与第二半导体层(2)电性地连接的第二接点(12)。第四半导体层(6)的杂质浓度高于第一半导体层(3)的杂质浓度,且低于第三半导体层(7)的杂质浓度。

    雪崩光电二极管
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108369968A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201680070709.6

    申请日:2016-06-23

    CPC classification number: H01L31/107

    Abstract: 雪崩光电二极管包括:形成于第一导电型的基板(1)的第一导电型的第一半导体层(3);形成于第一半导体层(3)下并与第一导电型为相反的第二导电型的第二半导体层(2);形成于基板(1)的第一半导体层(3)的浅的部分并与第一半导体层(3)的杂质浓度相比为高浓度的第一导电型的第三半导体层(7);形成于第三半导体层(7)的正下方的第一半导体层(3)内的区域的第一导电型的第四半导体层(6);与第一半导体层(3)电性地连接的第一接点(11);与第二半导体层(2)电性地连接的第二接点(12)。第四半导体层(6)的杂质浓度高于第一半导体层(3)的杂质浓度,且低于第三半导体层(7)的杂质浓度。

    拍摄装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109075178A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201780024488.3

    申请日:2017-03-08

    Abstract: 实现一种具备使偏振特性提高的狭缝型的偏振滤光器的拍摄装置。拍摄装置(100)的偏振部(10)具备隔着电介质层(14)的第一偏振片层(120a)及第二偏振片层(120b),在第一偏振片层(120a)及第二偏振片层(120b)的各偏振片层中,形成有沿规定的方向周期性地排列的多个狭缝(13)。第一偏振片层(120a)及第二偏振片层(120b)的形成材料及控制受光部(11)的动作的布线层的形成材料分别为选自Al、Si、Cu、Au、Ag、Pt、W、Ti、Sn、In、Ga、Zn或包含这些元素中的至少一个的化合物或合金的材料。

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