制备金/钯气体分离膜的方法

    公开(公告)号:CN107427763B

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201680016539.3

    申请日:2016-03-16

    IPC分类号: B01D53/22 B01D69/12 B01D71/02

    摘要: 本发明提供了一种用于制备抗一氧化碳的金合金气体分离膜体系的方法。在管状多孔衬底的表面上提供钯层,其中钯层的平均表面粗糙度(Sa)小于2.5微米,然后将管状多孔衬底浸入到氯金酸或其盐的溶液中。周期性地将一定体积的过氧化氢引入到溶液中,同时以设定速率使管状多孔衬底旋转一段时间,以便在钯层上沉积具有期望均匀度和期望厚度的金层。