公开(公告)号：CN100339213C

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN02829300.2

申请日：2002-07-11

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： M·安杰洛波洛斯 ,  A·阿里拉姆 ,  C·R·瓜里涅里 ,  黄武松 ,  R·夸昂 ,  W·M·莫罗

IPC: B32B9/04 ,  B05D5/00 ,  C08J7/18 ,  C08G77/04 ,  G03C1/76

CPC classification number: C08G77/20 ,  C08G77/38 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/151

Abstract: 特征为存在一种具有侧发色团部分的含SiO聚合物的抗反射组合物在光刻工艺中是有用的抗反射涂料/硬掩模组合物。这些组合物提供突出的光学，机械和蚀刻敏感性性能，同时能够使用旋涂施加技术施加。该组合物特别用于光刻工艺，该光刻工艺用于在衬底，特别地金属或半导体层上配置底层材料层。

公开(公告)号：CN1638955A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN02829300.2

申请日：2002-07-11

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： M·安杰洛波洛斯 ,  A·阿里拉姆 ,  C·R·瓜里涅里 ,  黄武松 ,  R·夸昂 ,  W·M·莫罗

IPC: B32B9/04 ,  B05D5/00 ,  C08J7/18 ,  C08G77/04 ,  G03C1/76

CPC classification number: C08G77/20 ,  C08G77/38 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/151

Abstract: 特征为存在一种具有侧发色团部分的含SiO聚合物的抗反射组合物在光刻工艺中是有用的抗反射涂料/硬掩模组合物。这些组合物提供突出的光学，机械和蚀刻敏感性性能，同时能够使用旋涂施加技术施加。该组合物特别用于光刻工艺，该光刻工艺用于在衬底，特别地金属或半导体层上配置底层材料层。