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公开(公告)号：CN106575849B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201580038484.1
申请日：2015-07-21
申请人： 国家科学研究所物理和技术科学中心
发明人： 科斯图踢思·瑞格尔斯克斯 , 格迪米纳斯·拉斯凯提斯
CPC分类号： H01S3/06791 , H01S3/0675 , H01S3/06754 , H01S3/08027 , H01S3/082 , H01S3/10092 , H01S3/106 , H01S3/1112 , H01S5/5018
摘要： 本发明涉及激光技术领域，尤其是涉及超短脉冲发生方法及发生器。在发生器的光学回路内形成的超短光脉冲的一次往返包括这些步骤：光脉冲的放大；由于光学透明介质中的光学克尔效应，放大光脉冲的光谱展宽；通过使用第一光谱灵敏度光学元件，光谱展宽光脉冲的预定光谱成分的选择；随后再次进行：所选择的光脉冲的放大，由于光学透明介质中的光学克尔效应，所放大的光脉冲的光谱展宽，通过使用第二光谱灵敏度光学元件，选择光谱展宽光脉冲的预定光谱成分，在此使用第一光谱灵敏度光学元件选择的光脉冲的光谱成分不同于使用第二光谱灵敏度光学元件选择的光脉冲的光谱成分。
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公开(公告)号：CN116324032A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180053197.3
申请日：2021-08-25
申请人： 国家科学研究所物理和技术科学中心
发明人： 埃尔多纳·嘉明尼 , 伊娜·斯坦科维奇 , 卡洛里斯·拉托塔斯 , 乌金尤思·诺库斯 , 格迪米纳斯·拉斯凯提斯
IPC分类号： C23C18/16
摘要： 本发明涉及在铜表面上选择性沉积镍层。本发明可以用于电子电路的导电区域的生产。用于在铜表面上沉积镍的方法包括：将待与镍层一起沉积的制品浸入一个或多个浴槽中，其中至少一个浴槽包含还原剂，并且其中至少一个浴槽适于(无电)镀镍。为了扩大应用领域并获得实际上纯的镍涂层，该还原剂包含硼酸或磷酸化合物，其包括吗啉硼烷(C4H9BNO)、或二甲胺硼烷(C2H7BN)、或四氢硼酸钠(NaBH4)、或次磷酸钠(NaBH4)，并且该还原剂直接或间接还原铜表面上的不溶性铜(I)或铜(II)化合物。
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公开(公告)号：CN106575849A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580038484.1
申请日：2015-07-21
申请人： 国家科学研究所物理和技术科学中心
发明人： 科斯图踢思·瑞格尔斯克斯 , 格迪米纳斯·拉斯凯提斯
CPC分类号： H01S3/06791 , H01S3/0675 , H01S3/06754 , H01S3/08027 , H01S3/082 , H01S3/10092 , H01S3/106 , H01S3/1112 , H01S5/5018
摘要： 本发明涉及激光技术领域，尤其是涉及超短脉冲发生方法及发生器。在发生器的光学回路内形成的超短光脉冲的一次往返包括这些步骤：光脉冲的放大；由于光学透明介质中的光学克尔效应，放大光脉冲的光谱展宽；通过使用第一光谱敏感性光学元件，光谱展宽光脉冲的预定光谱成分的选择；随后再次进行：所选择的光脉冲的放大，由于光学透明介质中的光学克尔效应，所放大的光脉冲的光谱展宽，通过使用第二光谱敏感性光学元件，选择光谱展宽光脉冲的预定光谱成分，在此使用第一光谱敏感性光学元件选择的光脉冲的光谱成分不同于使用第二光谱敏感性光学元件选择的光脉冲的光谱成分。
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